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发明名称 EUV RADIATION SOURCE AND LITHOGRAPHIC APPARATUS.
摘要
申请公布号 NL2004978(A) 申请公布日期 2010.08.12
申请号 NL20102004978 申请日期 2010.06.28
申请人 ASML NETHERLANDS B.V., 发明人 LOOPSTRA, ERIK;SWINKELS, GERARDUS;BUURMAN, ERIK;MESTROM, WILBERT
分类号 G03F7/20;H05G2/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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