印章之改良结构

摘要

一种印章之改良结构，主要系包含印章本体及包覆于该印章本体之披覆件。其中，该印章本体系于其中一端面篆刻姓名或其他之文字，该披覆件系为薄片状之金饰，使披覆件包覆于印章本体之四个垂直面，或四个垂直面及顶面，俾配合印章本体于该披覆件篆刻图案或文字，从而使印章本体藉由金饰之衬托，增加其艺术价值及珍贵性，以供典藏及传家。

主权项

1.一种印章之改良结构，系包含印章本体及包覆于该印章本体之披覆件，其中，该印章本体的其中一端面篆刻姓名或其他之文字，该披覆件系为薄片状之金饰，其包覆于印章本体之四个垂直面，或四个垂直面及顶面，印章本体系于垂直面之适当位置设有凹槽，使披覆件于包覆时，于该凹槽位置设为向内凹陷与凹槽相互嵌置，使披覆件紧密固定；藉由前述之构件，于披覆件包覆后，系可配合印章本体于该披覆件表面篆刻图案或文字。 ;2.如申请专利范围第1项所述之印章之改良结构，其中，该印章本体之凹槽系可依需要设为双面、三面或四面。 ;3.如申请专利范围第1项所述之印章之改良结构，其中，该披覆件的顶面，系可打造设计不同之人物、动物或其他物品之体态形状。 ;4.如申请专利范围第1项所述之印章之改良结构，其中，该披覆件系可设有框线，使框线嵌置于印章之凹槽，将印章本体以披覆件包覆于其中一垂直面或两垂直面。;第一图系本创作之立体分解图。;第二图系本创作之第一实施例立体图。;第三图系本创作之第二实施例立体图。;第四图系本创作之第三实施例立体图。;第五图系本创作之第四实施例立体图。;第六、七图系本创作之第五实施例立体图。