减少彩色滤光片中不规则性之方法与设备;METHODS AND APPARATUS FOR REDUCING IRREGULARITIES IN COLOR FILTERS

摘要

本发明揭露了一种用于印刷平板显示器之彩色滤光片并防止mura效应的方法、装置和系统，其系藉由在基板上的像素阱行(column)内沈积复数个墨滴，并有意地改变沈积在像素阱中的墨滴尺寸和/或相对横向位置。本发明亦揭露数个其他实施态样。

主权项

1.一种用以减少彩色滤光片中不规则性之方法，包括：在一基板上的一行(column)复数个像素阱(pixel well)内沈积复数个墨滴；以及有意地(intentionally)改变沈积在该些像素阱内的该些墨滴之一尺寸；其中该些墨滴之该尺寸的一标称容限(nominal tolerance)系被增加，以防止一mura不规则现象发生。 ;2.如申请专利范围第1项所述之方法，其中该些墨滴的该尺寸系经随机改变，以防止一mura不规则现象(mura irregularity)发生。 ;3.如申请专利范围第1项所述之方法，其中系基于该基板的一位置之一函数而改变该些墨滴的该尺寸。 ;4.如申请专利范围第1项所述之方法，其中系基于时间之一函数而改变该些墨滴的该尺寸。 ;5.如申请专利范围第1项所述之方法，其更包括有意地改变沈积在该些像素阱中的该些墨滴之一相对横向位置。 ;6.如申请专利范围第5项所述之方法，其中该有意地改变该些墨滴的该相对横向位置之步骤包括在印刷期间改变一印刷头的一横向位置。 ;7.如申请专利范围第1项所述之方法，其中在各墨滴之间改变该些墨滴的该尺寸。 ;8.如申请专利范围第1项所述之方法，其中在该些墨滴之复数个组之间改变该些墨滴的该尺寸。 ;9.如申请专利范围第1项所述之方法，其中在该些像素阱之间改变该些墨滴的该尺寸。 ;10.一种用以减少彩色滤光片中不规则性之装置，该装置包括：一印刷头，系适以于一基板上的一行复数个像素阱内沈积复数个墨滴；以及一控制器，系适以改变藉由该印刷头沈积在该些像素阱中的该些墨滴之一尺寸；其中该控制器系适以增加该些墨滴之该尺寸的一标称容限，以防止一mura不规则现象发生。。 ;11.如申请专利范围第10项所述之装置，其中该控制器系适以随机地改变该些墨滴的该尺寸，以防止一mura不规则现象发生。 ;12.如申请专利范围第10项所述之装置，其中该控制器系适以基于该基板之一位置的一函数而改变该些墨滴的该尺寸。 ;13.如申请专利范围第10项所述之装置，其中该控制器系适以基于时间的一函数而改变该些墨滴的该尺寸。 ;14.如申请专利范围第10项所述之装置，其中该控制器系适以藉由在印刷期间改变该印刷头的一横向位置而改变沈积在该些像素阱中的该些墨滴的一相对横向位置。 ;15.如申请专利范围第10项所述之装置，其中该控制器系适以在各墨滴之间改变该些墨滴的该尺寸。 ;16.如申请专利范围第10项所述之装置，其中该控制器系适以在该些墨滴之复数个组之间改变该些墨滴的该尺寸。 ;17.如申请专利范围第10项所述之装置，其中该控制器系适以在该些像素阱之间改变该些墨滴的该尺寸。 ;18.一种用以减少彩色滤光片中不规则性之方法，包括：在一基板上的一行复数个像素阱内沈积复数个个墨滴；以及有意地改变沈积在该些像素阱中的该些墨滴之一相对横向位置。 ;19.如申请专利范围第18项所述之方法，其中系随机地改变该些墨滴的该相对横向位置，以防止一mura不规则现象发生。 ;20.如申请专利范围第18项所述之方法，其中系增加该些墨滴的该相对横向位置之一标称容限，以防止一mura不规则现象发生。 ;21.如申请专利范围第18项所述之方法，其中系基于该基板的一位置之一函数而改变该些墨滴的该相对横向位置。 ;22.如申请专利范围第18项所述之方法，其中系基于时间之一函数而改变该些墨滴的该相对横向位置。 ;23.如申请专利范围第18项所述之方法，其更包括有意地改变沈积在该些像素阱中的该些墨滴的一尺寸。 ;24.如申请专利范围第23项所述之方法，其中该有意地改变该些墨滴的该尺寸之步骤包括在印刷期间改变一印刷头的一喷墨体积。 ;25.如申请专利范围第18项所述之方法，其中在各墨滴之间改变该些墨滴的该相对横向位置。 ;26.如申请专利范围第18项所述之方法，其中在该些墨滴之复数个组之间改变该些墨滴的该相对横向位置。 ;27.如申请专利范围第18项所述之方法，其中在该些像素阱之间改变该些墨滴的该相对横向位置。 ;28.一种用以减少彩色滤光片中不规则性之装置，该装置包括：一印刷头，系适以在一基板上的一行复数个像素阱内沈积复数个墨滴；以及一控制器，系适以改变藉由该印刷头沈积在该些像素阱中的该些墨滴之一相对横向位置。 ;29.如申请专利范围第28项所述之装置，其中该控制器系适以随机地改变该些墨滴的该相对横向位置，以防止一mura不规则现象发生。 ;30.如申请专利范围第28项所述之装置，其中该控制器系适以增加该些墨滴的该相对横向位置之一标称容限，以防止一mura不规则现象发生。 ;31.如申请专利范围第28项所述之装置，其中该控制器系适以基于该基板之一位置的一函数而改变该些墨滴的该相对横向位置。 ;32.如申请专利范围第28项所述之装置，其中该控制器系适以基于时间的一函数而改变该些墨滴的该相对横向位置。 ;33.如申请专利范围第28项所述之装置，其中该控制器系适以藉由在印刷期间改变该印刷头的一喷墨体积而改变沈积在该些像素阱中的该些墨滴的一尺寸。 ;34.如申请专利范围第28项所述之装置，其中该控制器系适以在各墨滴之间改变该些墨滴的该相对横向位置。 ;35.如申请专利范围第28项所述之装置，其中该控制器系适以在该些墨滴之复数个组之间改变该些墨滴的该相对横向位置。 ;36.如申请专利范围第28项所述之装置，其中该控制器系适以在该些像素阱之间改变该些墨滴的该相对横向位置。;第1图为理想彩色滤光片实施例的放大示图；第2图为具有以箭头表示mura不规则性的彩色滤光片之平面图实施例的放大示图；第3图为存在mura不规则性的平板显示器之输出的实施例示图；第4图为两行具有mura不规则性之像素的透视示意图；第5图为两行不具有mura不规则性之像素的透视示意图；第6A、6B、7A和7B图包括描述用于分别产生第4和5图的实施例之实际值的表格；第8图为描述根据本发明藉由改变墨滴尺寸而减少每个像素中墨量之标准偏差的表格；第9图为描述根据本发明藉由改变墨滴尺寸而减少每个像素中墨量之标准偏差的图表；第10图为正在制造的放大彩色滤光片示图；第11图为根据本发明的方法而正在制造的放大彩色滤光片示图；第12图为根据本发明的方法制造的彩色滤光片实施例的放大示图。