0°入射起偏薄膜的制备方法

摘要

一种0°入射起偏薄膜的制备方法，该方法是采用(HL)mH膜系利用镀制膜层的沉积角度θ1、θ2不同而镀制出高折射率膜层和低折射率膜层交替变化的双折射薄膜，实现0°起偏，其中H和L分别表示λ/4光学厚度的高折射率层和低折射率层，m为周期数。本发明具有薄膜结构简单、膜厚小、制备过程简单和操作方便的特点。

主权项

1.一种0°入射起偏薄膜的制备方法，其特征在于包括下列具体步骤：①选用基片和膜料，确定镀膜的两个沉积角度θ₁、θ₂，θ₂-θ₁≥10°，且40°≤θ₁，θ₂≤70°，分别以θ₁和θ₂沉积角度各镀制一块单层膜，厚度不限；②分别测量所述的两块单层膜的s光和p光的透射光谱曲线，用包络法求出s光和p光在参考波长λ处的折射率n_s1、n_s2、n_p1、n_p2，其中：n_s1为沉积角度为θ₁时，所镀制单层膜s光的折射率；n_s2为沉积角度为θ₂时，所镀制单层膜s光的折射率；n_p1为沉积角度为θ₁时，所镀制单层膜p光的折射率；n_p2为沉积角度为θ₂时，所镀制单层膜p光的折射率；③根据需要的偏振程度即R_p和R_s的差值和(HL)^mH膜系的中心波长处的s光反射率R_s和p光的反射率R_p与折射率的关系来确定膜层数2m+1：对于(HL)^mH膜系的中心波长处，s光反射率R_s和p光的反射率R_p与折射率有如下的关系：式中：n_sh为所镀制多层膜中高折射率层的s光折射率；n_sl为所镀制多层膜低折射率层的s光折射率；n_ss为基片的s光折射率；n_ph为所镀制多层膜高折射率层的p光折射率；n_pl为所镀制多层膜低折射率层的p光折射率；n_ps为基片的p光折射率；④将所采用的膜料装入镀膜机的膜料蒸发池(3)中；⑤将基片清洗后放在夹具(2)中，并确保基片的表面与步进电机(1)的旋转轴垂直，按常规抽真空，加挡板，对膜料预熔；⑥利用电脑调整所述的步进电机(1)的旋转轴的取向，将膜料沉积角度调至θ₁，同时打开挡板开始镀膜，当膜层的光学厚度达到中心波长的1/4波长时，控制所述的步进电机(1)的旋转轴的旋转，将所述的夹具(2)旋转180°，再镀制相同厚度，然后关闭挡板；⑦利用电脑调整所述的步进电机(1)的旋转轴的取向，将膜料沉积角度调至θ₂，控制所述的步进电机(1)的旋转轴的旋转，将所述的夹具(2)沿同一方向旋转270°，同时打开挡板开始镀膜，当膜层的光学厚度达到中心波长的1/4波长时，控制所述的步进电机(1)的旋转轴的旋转，将所述的夹具(2)沿同一方向旋转180°，再镀制相同厚度，关闭挡板，然后再将所述的夹具(2)沿同一方向旋转90°，完成一个周期的高折射率膜层和低折射率膜层的镀制；⑧重复上述步骤⑥和⑦共m个周期，镀制完(HL)^mH膜系中的(HL)^m部分；⑨利用电脑调整所述的步进电机(1)的旋转轴的取向，将膜料沉积角度调至θ₁，同时打开挡板开始镀膜，当膜层的光学厚度达到中心波长的1/4波长时，控制所述的步进电机(1)的旋转轴的旋转，将所述的夹具(2)旋转180°，再镀制相同厚度，然后关闭挡板；⑩将所镀之膜片从所述的镀膜机取出，按常规方法处理即可。