发明名称 |
偶氮化合物及其盐;AZO COMPOUND AND ITS SALT |
摘要 |
本发明系有关,使用于偏光性能及耐久性优异,同时在可见光领域中色漏极少之偏光板,以下述式(1)表示偶氮化合物或其盐,或者其任一种的铜配位化合物者。;(式中,A为具有磺酸基、胺基、低级烷基、低级烷氧基等之1~3个取代基的苯基或萘基;B为氢原子、磺酸基、低级烷基、低级烷氧基等;R1~R4为分别独立之氢原子、卤原子、低级烷基、低级烷氧基等;D为-NHCO-、-N=N-、或-NH-;E为具有氢原子、低级烷基、羟基、胺基等之1~3个取代基的苯基;n为0或1;m为0或1。) |
申请公布号 |
TWI328025 |
申请公布日期 |
2010.08.01 |
申请号 |
TW093110531 |
申请日期 |
2004.04.15 |
申请人 |
日本化药股份有限公司 NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA 日本;宝来技术有限公司 POLATECHNO CO., LTD. 日本 |
发明人 |
贞光雄一;川边和幸 |
分类号 |
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主分类号 |
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代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
主权项 |
1.一种偶氮化合物或其盐、或者其任一种之铜配位化合物,其特征为以下述式(1)所表示者,(式中,A为具有1~3个选自磺酸基、胺基、取代胺基、低级烷基、低级烷氧基、羟基及羧基所成群之取代基的苯基,或具有1~3个做为取代基之磺酸基、亦可为更具有羟基的萘基;B为氢原子、磺酸基、低级烷基、低级烷氧基、卤原子或硝基;R 1 ~R 4 为分别独立之氢原子、卤原子、低级烷基、低级烷氧基或乙醯胺基;D为-NHCO-、-N=N-、或-NH-;E为具有1~3个选自氢原子、低级烷基或羟基、胺基、硝基、磺酸基、羧基、低级烷基及低级烷氧基所成群之取代基的苯基;n为0或1;m为0或1)。 ;2.如申请专利范围第1项之偶氮化合物或其盐、或者其任一种之铜配位化合物,其中A为具有1~3个选自做为取代基之磺酸基、甲基、甲氧基、羟基及羧基所成群之取代基的苯基者。 ;3.如申请专利范围第1项之偶氮化合物或其盐、或者其任一种之铜配位化合物,其中A为具有1~2个选自做为取代基之磺酸基、羧基、羟基或C1~C5之烷基的苯基,或具有磺酸基之萘基;B为氢原子、磺酸基、C1~C4之烷基或C1~C4之烷氧基;R 1 为C1~C5之烷基、C1~C5之烷氧基或乙醯胺基;R 2 为氢原子、C1~C5之烷基或C1~C5之烷氧基;R 3 为C1~C5之烷基或C1~C5之烷氧基;R 4 为氢原子、C1~C5之烷基或C1~C5之烷氧基;D为-NHCO-、-N=N-、或-NH-;E为可被胺基或羟基取代之苯基。 ;4.如申请专利范围第1项之偶氮化合物或其盐、或者其任一种之铜配位化合物,其中A为具有做为取代基之磺酸基、羧基的苯基;B为磺酸基;R 1 为甲基;R 2 为氢原子;R 3 为甲基;R 4 为甲基或甲氧基;D为-NHCO-或-N=N-;E为可被胺基或羟基取代之苯基。 ;5.一种染料系偏光膜,其特征为偏光膜基材中含有申请专利范围第1项之偶氮化合物或其盐、或者其任一种之铜配位化合物者。 ;6.一种染料系偏光膜,其特征为偏光膜基材中含有申请专利范围第1项之偶氮化合物或其盐、或者其任一种之铜配位化合物,及此等以外之一种以上的有机染料者。 ;7.如申请专利范围第5或6项之染料系偏光膜,其中偏光膜基材为聚乙烯醇系树脂所成之薄膜者。 ;8.如申请专利范围第5或6项之染料系偏光膜,其系液晶投影器用者。 ;9.一种偏光板,其特征为含有申请专利范围第5~8项中任一项之染料系偏光膜所成者。 |
地址 |
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