发明名称 |
高分子辅助沉积制备高温超导涂层导体缓冲层的方法 |
摘要 |
一种高分子辅助沉积制备高温超导涂层导体缓冲层的方法,其具体作法是:a、无水溶液制备:按稀土或锆与铈的离子比x∶1-x,0.01≤x≤0.5称量稀土乙酸盐或稀土丙醇盐或稀土乙酰丙酮盐或丙醇锆或锆酸四丁酯与乙酰丙酮铈,溶解于有机溶剂中形成无水溶液;b、胶体制备:在无水溶液中加入聚乙烯醇缩丁醛或聚乙二醇或聚乙烯基吡咯烷酮或聚乙烯醇或聚氧化乙烯形成胶体;c、胶体涂敷与干燥:将胶体涂覆在基片上并干燥;d、烧结成相:再将基片放入烧结炉,以5-100℃/min升至850℃-1150℃,保温0.25-2小时,以1-2℃/min降至室温。该方法制作工艺简单,操作控制容易,成本低,不污染环境;制备得到的氧化铈单层缓冲层的临界厚度达到150-200nm。 |
申请公布号 |
CN101281806B |
申请公布日期 |
2010.07.28 |
申请号 |
CN200810044629.0 |
申请日期 |
2008.06.04 |
申请人 |
西南交通大学 |
发明人 |
赵勇;蒲明华;张红;李果;雷鸣;程华 |
分类号 |
H01B12/00(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I;H01L39/24(2006.01)I |
主分类号 |
H01B12/00(2006.01)I |
代理机构 |
成都博通专利事务所 51208 |
代理人 |
陈树明 |
主权项 |
一种高分子辅助沉积制备高温超导涂层导体缓冲层的方法,其具体作法是:a、无水溶液制备:按稀土或锆与铈的离子比x∶1-x,0.01≤x≤0.5称量稀土乙酸盐或稀土丙醇盐或稀土乙酰丙酮盐或丙醇锆或锆酸四丁酯与乙酰丙酮铈,然后溶解于有机溶剂乙酸或甲醇或乙二醇甲醚中,形成无水溶液;稀土为钇(Y)、镧(La)、镨(Pr)、钕(Nd)、钐(Sm)、铕(Eu)、钆(Gd)、铽(Tb)、镝(Dy)、钬(Ho)、铒(Er)、铥(Tm)、镱(Yb)、镥(Lu)中的一种;b、胶体制备:在a步的无水溶液中加入聚乙烯醇缩丁醛(PVB)或聚乙二醇(PEG)或聚乙烯基吡咯烷酮(PVP)或聚乙烯醇(PVA)或聚氧化乙烯(PEO)形成胶体;c、胶体涂敷与干燥:将b步制得的胶体涂覆在基片上,并干燥;d、烧结成相:将干燥后的基片放入烧结炉中烧结成相,将炉温以5-100℃/min的速度升至850℃-1150℃,保温0.25-2小时,随后将炉温以1-2℃/min的速率降至室温,即得。 |
地址 |
610031 四川省成都市二环路北一段111号 |