形成包含Ta₂O₅的层的方法

摘要

基材放置在沉积室内。于在基材上有效沉积含有Ta2O5的层的条件下，向沉积室中供应包括TaF5和选自H2O与O3中至少一种的气态前体。基材放置在沉积室内。第一化学种化学吸附到室内的基材上，以使包括TaF5的气态第一前体形成第一化学种单层。所述化学吸附第一化学种与包括H2O与O3中至少一种的气态第二前体接触，以使所述气态第二前体与第一化学种反应以形成含有Ta和O的单层。于在基材上有效形成大量含有Ta2O5的材料的条件下，依次重复进行所述化学吸附和接触。

主权项

一种在基材上形成含有Ta2O5的层的方法，所述方法包括如下步骤：在沉积室内放置基材；和于在基材上有效沉积含有Ta2O5的层的条件下，向所述沉积室中供应气态前体，所述气态前体包括TaF5以及选自H2O和O3中的至少一种，所述条件为有效形成至少大部分要以001取向六方相被结晶的所述Ta2O5作为初始沉积。