| 发明名称 | 离子型UV-A防晒剂及含有该防晒剂的组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一类新的1，4-二氢吡啶衍生物、含有该衍生物的化妆或皮肤病学用的新防晒剂组合物，以及这类衍生物对人类皮肤及/或头发抗紫外线照射，尤其抗日光照射进行光辐照保护的用途。 | ||
| 申请公布号 | CN1918126B | 申请公布日期 | 2010.07.21 |
| 申请号 | CN200580004920.X | 申请日期 | 2005.02.11 |
| 申请人 | DSM IP资产公司 | 发明人 | 凯特加·伯格-舒尔茨;乌尔里克·休伯;丹尼尔·斯普伦格 |
| 分类号 | C07D213/57(2006.01)I;C07F9/08(2006.01)I;A61K31/4422(2006.01)I | 主分类号 | C07D213/57(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 封新琴;巫肖南 |
| 主权项 | 1.通式I所示的化合物<img file="FA20191743200580004920X01C00011.GIF" wi="570" he="387" />式中，R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>为-CN；R<sup>3</sup>、R<sup>4</sup>、R<sup>5</sup>和R<sup>6</sup>独立地选自氢原子或C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>烷基，X为含1至20个碳原子和任选1至10个杂原子，并含有至少一个荷正电或荷负电的基团的烃基，以及Y为抗衡离子。 | ||
| 地址 | 荷兰海尔伦 | ||