发明名称 PROCEDE D'ELIMINATION D'IMPURETES SOUFREES, AZOTEES ET HALOGENEES CONTENUES DANS UN GAZ DE SYNTHESE
摘要 L'invention concerne un procédé d'élimination ultime d'impuretés soufrées, azotées et halogénées contenues dans un gaz de synthèse, ledit procédé comprenant : a) une étape conjointe d'hydrolyse de COS et HCN contenus dans le gaz et de captation des composés halogénés, utilisant un catalyseur à base de TiO , b) une étape optionnelle de lavage par un solvant, c) une étape de désulfuration sur une masse de captation ou adsorbant. Le gaz de synthèse purifié selon le procédé de l'invention contient moins de 10 ppb poids, moins de 10 ppb poids d'impuretés azotées et moins de 10 ppb poids d'impuretés halogénées.
申请公布号 FR2940920(A1) 申请公布日期 2010.07.16
申请号 FR20090000108 申请日期 2009.01.12
申请人 IFP 发明人 CHICHE DAVID;BOUDET NICOLAS;VIGUIE JEAN CHRISTOPHE;LELIAS MARC ANTOINE;DUCREUX OLIVIER
分类号 B01D53/75;B01D53/48;B01D53/58;B01D53/68;C01B3/58 主分类号 B01D53/75
代理机构 代理人
主权项
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