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发明名称 Scanstage of measurement apparatus for metal impurities on the semiconductor wafer
摘要
申请公布号 KR100970243(B1) 申请公布日期 2010.07.16
申请号 KR20080031130 申请日期 2008.04.03
申请人 发明人
分类号 H01L21/687;H01L21/02;H01L21/66 主分类号 H01L21/687
代理机构 代理人
主权项
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