| 发明名称 | 具有沉积遮蔽件的承载件 | ||
| 摘要 | 抑制由承载件引起的沉积膜的剥离并且延长承载件的更换周期。在包括滑座(7)的承载件(1)中，在基板保持件(3)的两个表面上安装能够覆盖基板保持件(3)并且具有等于或大于形成有膜的基板(2)的开口的沉积遮蔽件(20a，20b)，该滑座(7)具有用于输送支撑基板(2)的基板保持件(3)的机构。此时，基板保持件(3)、支撑爪(4)和固定部(6)被配置成被沉积遮蔽件(20)隐藏。在成膜室中，为了在基板(2)上形成预定的膜，被沉积遮蔽件(20)覆盖的承载件(1)暴露于成膜室中的等离子体空间，并且形成膜。能够抑制被沉积遮蔽件(20)覆盖的基板保持件(3)、支撑爪(4)和固定部(6)上的膜沉积。因此，抑制了由于爪的挠曲导致的膜的剥离或由于固定部(6)的锐角部等导致的膜的剥离，由此能够延长承载件(1)的更换周期。 | ||
| 申请公布号 | CN101779241A | 申请公布日期 | 2010.07.14 |
| 申请号 | CN200880002153.2 | 申请日期 | 2008.06.17 |
| 申请人 | 佳能安内华股份有限公司 | 发明人 | 曾根浩;宝满信也;野泽直之;长谷川善郎 |
| 分类号 | G11B7/26(2006.01)I | 主分类号 | G11B7/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所 11277 | 代理人 | 刘新宇;张会华 |
| 主权项 | 一种承载件，其包括：基板保持件，该基板保持件具有用于支撑基板的基板支撑爪；以及滑座，该滑座用于输送所述基板保持件，其中，在所述基板保持件上设置用于防止膜沉积在所述基板支撑爪上的沉积遮蔽件。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||