一种印刷型场发射显示器及其制作方法

摘要

本发明公开了一种印刷型场发射显示器及其制作方法，按照以下三个步骤进行：(一)制作下基板，其中又分为：a)制作栅极；b)制作绝缘介质层；c)制作SiO2绝缘层，SiO2绝缘层厚度为200nm；d)制作阴极；e)制作阴极发射体；f)制作支撑体。(二)制作上基板，其中又分为：A)制作黑矩阵；B)制作RGB三色荧光粉。(三)封排及老练。本发明的改进印刷型FED的制作工艺，提高了下栅极结构FED栅极与阴极之间的绝缘性能，保证整个FED的可靠性和稳定性。

主权项

一种印刷型场发射显示器，包括下基板及与下基板相封装的上基板及其上、下基板之间的支撑体(7)，其特征在于：所述下基板包括玻璃基板(1)、印制在玻璃基板(1)上的栅极(2)、栅极(2)上的绝缘介质层(3)和绝缘介质层(3)上设置的阴极(5)，阴极(5)上设有阴极发射体(6)；在所述下基板绝缘介质层(3)和阴极(5)之间设置有SiO2绝缘层(4)；所述上基板包括ITO玻璃基板(9)、印刷在ITO玻璃基板(9)下端面的黑矩阵(10)及RGB荧光粉(11)；所述的RGB荧光粉(11)分别嵌套在黑矩阵(10)之间，并且该RGB荧光粉(11)与下基板上的阴极发射体(6)相对应。