发明名称 用于多透射率光掩模结构的镶嵌的方法和所得结构
摘要 本发明公开了一种光罩器件。该光罩器件具有石英衬底,所述石英衬底包含表面区域。在所述表面区域的第一部分上形成第一区域,所述第一区域包含多个也被称为二元掩模图案的不透明掩模图案。在所述表面区域的第二部分上的第二区域,所述第二区域包含多个第一衰减相移掩模图案。在所述表面区域的第三部分上的第三区域,所述第三区域包含多个第二衰减相移掩模图案。因此,该光罩器件具有至少三个对应不同光学特性的不同区域。
申请公布号 CN1773373B 申请公布日期 2010.07.14
申请号 CN200410068071.1 申请日期 2004.11.08
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 洪齐元;张斌
分类号 G03F1/08(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I 主分类号 G03F1/08(2006.01)I
代理机构 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人 陈红
主权项 一种光罩器件,包括:一个石英衬底,所述石英衬底包含表面区域;一个第一区域,位于所述表面区域的第一部分上,包含多个二元掩模图案;一个第二区域,位于所述表面区域的第二部分上,包含多个第一相移掩模图案;和一个第三区域,位于所述表面区域的第三部分上,包含多个第二相移掩模图案,其中,所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域是彼此分离的不同区域,其中,所述第一相移掩模图案的特征是具有第一透射率,所述第一透射率为32%,第二相移掩模图案的特征是具有第二透射率,所述第二透射率为6%。
地址 201203 上海市浦东新区张江路18号