发明名称 |
用于多透射率光掩模结构的镶嵌的方法和所得结构 |
摘要 |
本发明公开了一种光罩器件。该光罩器件具有石英衬底,所述石英衬底包含表面区域。在所述表面区域的第一部分上形成第一区域,所述第一区域包含多个也被称为二元掩模图案的不透明掩模图案。在所述表面区域的第二部分上的第二区域,所述第二区域包含多个第一衰减相移掩模图案。在所述表面区域的第三部分上的第三区域,所述第三区域包含多个第二衰减相移掩模图案。因此,该光罩器件具有至少三个对应不同光学特性的不同区域。 |
申请公布号 |
CN1773373B |
申请公布日期 |
2010.07.14 |
申请号 |
CN200410068071.1 |
申请日期 |
2004.11.08 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
洪齐元;张斌 |
分类号 |
G03F1/08(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/08(2006.01)I |
代理机构 |
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 |
代理人 |
陈红 |
主权项 |
一种光罩器件,包括:一个石英衬底,所述石英衬底包含表面区域;一个第一区域,位于所述表面区域的第一部分上,包含多个二元掩模图案;一个第二区域,位于所述表面区域的第二部分上,包含多个第一相移掩模图案;和一个第三区域,位于所述表面区域的第三部分上,包含多个第二相移掩模图案,其中,所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域是彼此分离的不同区域,其中,所述第一相移掩模图案的特征是具有第一透射率,所述第一透射率为32%,第二相移掩模图案的特征是具有第二透射率,所述第二透射率为6%。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |