发明名称 |
提高有机半导体载子迁移率的方法 |
摘要 |
一种提高有机半导体载子迁移率的方法,主要包括有下列步骤:形成栅极(Gate)于一基板上;形成一绝缘层(Insulator layer)于该基板及该栅极上;涂布聚酰亚胺(Polyimide)以形成一中间层(interlayer)于该绝缘层上;形成一主动层于该中间层上;以及,形成源极和漏极,其中,涂布聚酰亚胺以形成一中间层于该绝缘层上的方法可用旋涂法(Spin Coating)、喷墨印刷法(Inject Printing)、接触印刷法(Contact Printing)或等离子体蚀刻等等的方法完成。 |
申请公布号 |
CN1741298B |
申请公布日期 |
2010.07.14 |
申请号 |
CN200410056826.6 |
申请日期 |
2004.08.23 |
申请人 |
财团法人工业技术研究院 |
发明人 |
胡堂祥;何家充;黄良莹;林蔚伶 |
分类号 |
H01L51/40(2006.01)I;H01L51/20(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/40(2006.01)I |
代理机构 |
北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 |
代理人 |
孙皓晨 |
主权项 |
一种提高有机半导体载子迁移率的方法,其特征在于,其由下列步骤组成:(a)形成栅极于一基板上;(b)形成一绝缘层于该基板及该栅极上;(c)涂布聚酰亚胺以形成一中间层于该绝缘层上;(d)形成一主动层于该中间层上,其中,该主动层为有机半导体材料,该中间层是加大该主动层的晶粒从而减少主动层晶界数目;(e)形成源极和漏极。 |
地址 |
中国台湾 |