发明名称 提高有机半导体载子迁移率的方法
摘要 一种提高有机半导体载子迁移率的方法,主要包括有下列步骤:形成栅极(Gate)于一基板上;形成一绝缘层(Insulator layer)于该基板及该栅极上;涂布聚酰亚胺(Polyimide)以形成一中间层(interlayer)于该绝缘层上;形成一主动层于该中间层上;以及,形成源极和漏极,其中,涂布聚酰亚胺以形成一中间层于该绝缘层上的方法可用旋涂法(Spin Coating)、喷墨印刷法(Inject Printing)、接触印刷法(Contact Printing)或等离子体蚀刻等等的方法完成。
申请公布号 CN1741298B 申请公布日期 2010.07.14
申请号 CN200410056826.6 申请日期 2004.08.23
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 胡堂祥;何家充;黄良莹;林蔚伶
分类号 H01L51/40(2006.01)I;H01L51/20(2006.01)I 主分类号 H01L51/40(2006.01)I
代理机构 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人 孙皓晨
主权项 一种提高有机半导体载子迁移率的方法,其特征在于,其由下列步骤组成:(a)形成栅极于一基板上;(b)形成一绝缘层于该基板及该栅极上;(c)涂布聚酰亚胺以形成一中间层于该绝缘层上;(d)形成一主动层于该中间层上,其中,该主动层为有机半导体材料,该中间层是加大该主动层的晶粒从而减少主动层晶界数目;(e)形成源极和漏极。
地址 中国台湾