具污染物截留系统之微影装置、污染物截留系统、装置制造方法及微影装置中污染物截留之改良方法;A LITHOGRAPHIC APPARATUS HAVING A CONTAMINANT TRAPPING SYSTEM, A CONTAMINANT TRAPPING SYSTEM, A DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND A METHOD FOR IMPROVING TRAPPING OF CONTAMINANTS IN A LITHOGRAPHIC APPARATUS

摘要

本发明提供一种微影装置，其包括一经组态以自一发光点实质上调节辐射光束之照明系统。该照明系统包括一污染物截留系统。该截留系统包括一具有一中心区及一周边区之污染物截留器。该截留器包括复数个穿过该周边区大体向外延伸之板。该发光点处于一与该等板重合之平面内。每一板均具有一法线，该法线具有一朝向该中心区之分量。

主权项

1.一种微影装置，其包含：----一照明系统，其经组态以自一发光点实质上调节一辐射光束，其中该照明系统包含一污染物截留系统，该截留系统包含一具有一中心区及一周边区之污染物截留器，该截留器包含复数个板，每一板自该中心区穿过该周边区实质向外延伸，该等板之每一者与一实质穿过该发光点延伸之虚拟平面重合，且该等板之每一者均具有一法线，该法线具有一朝向该中心区之分量。 ;2.如请求项1之微影装置，其中该中心区具有该等板可围绕旋转之一旋转轴，该旋转轴与一实质上穿过该发光点延伸之虚拟线重合。 ;3.如请求项2之微影装置，其中该污染物截留器提供有一驱动机构以旋转该截留器。 ;4.如请求项3之微影装置，其中该驱动机构位于该中心区以外。 ;5.如请求项1之微影装置，其中该截留系统包含复数个污染物截留器。 ;6.如请求项1之微影装置，其中该复数个板具有一相对于该中心区之旋转对称性。 ;7.如请求项1之微影装置，其中该截留系统包含一具有板之第一污染物截留器及一具有板之第二污染物截留器，该第一及该第二污染物截留器对准以使得自该发光点发出的某些光可穿过该第一及该第二污染物截留器传播，其中该第一污染物截留器可围绕一实质上穿过该发光点延伸之虚拟线而相对于该第二污染物截留器旋转。 ;8.如请求项7之微影装置，其中该第一及该第二污染物截留器中之一者的该等板在数量及/或角分布上与该第一及该第二污染物截留器中之另一者的该等板不同，以使得在任何旋转位置，该第一及该第二污染物截留器中之一者之该等板的一或多个阻止穿过该第一及该第二污染物截留器中之另一者的辐射。 ;9.如请求项7之微影装置，其中该微影装置进一步包含一图案化装置，其可于一辐射光束之横截面赋予该光束一图案，从而形成一经图案化之辐射光束，该照明系统进一步经配置以在该图案化装置之上游减少该辐射光束中之一非均一性。 ;10.如请求项9之微影装置，其中该第一及该第二污染物截留器经配置以使得在使用中，当该辐射光束离开该污染物截留系统时，于该辐射光束中存在一实质上预定之非均一性，该照明系统提供有一第一组反射元件及一第二组反射元件，该第一组之每一反射元件经配置以于该等污染物截留器之下游将该辐射光束之一部分反射至该第二组之一反射元件上，该第二组之每一反射元件经配置以在一进一步之光学路径中将该辐射光束朝向该图案化装置反射，每一反射元件具有一预定之位置及形状，以使得在使用中该辐射光束中之该预定之非均一性得以减少。 ;11.如请求项1之微影装置，其中该等板之每一者于一铰链轴处装有铰链，每一铰链轴经定向以使得当对应之板处于一直平面中时，一与该铰链轴重合之虚拟线穿过该发光点延伸。 ;12.如请求项11之微影装置，其中该等板之每一者包含一槽，每一槽经定向以使得当对应之板处于一直平面中时，一与该槽之一纵向重合之虚拟线穿过该发光点延伸。 ;13.一种藉由如请求项1之微影装置制造之器件。 ;14.一种用于一微影装置之一照明系统中之污染物截留系统，该截留系统包含一具有一中心区及一周边区之污染物截留器，该截留器包含复数个板，每一板自该中心区穿过该周边区实质向外延伸，其中该等板之每一者均具有一法线，该法线具有一朝向该中心区之分量，该复数个板经定向以使得与该复数个板重合之所有虚拟平面在该截留器外之一预定点处相交，该预定点意在与该微影装置之一发光点对应。 ;15.如请求项14之污染物截留系统，其中该中心区包含该复数个板可围绕旋转之一旋转轴，该旋转轴与一实质上穿过该预定点延伸之虚拟线重合。 ;16.如请求项15之污染物截留系统，其中该污染物截留器提供有一驱动机构以旋转该截留器。 ;17.如请求项16之污染物截留系统，其中该驱动机构位于该中心区以外。 ;18.如请求项14之污染物截留系统，其中该系统包含复数个污染物截留器。 ;19.如请求项14之污染物截留系统，其中该复数个板具有一相对于该中心区之旋转对称性。 ;20.如请求项14之污染物截留系统，其中该截留系统包含一具有板之第一污染物截留器及一具有板之第二污染物截留器，该第一及该第二污染物截留器对准以使得在使用中，自该预定点发出的某些光可穿过该等污染物截留器传播，其中该第一污染物截留器可围绕一实质上穿过该预定点延伸之虚拟线而相对于该第二污染物截留器旋转。 ;21.如请求项20之污染物截留系统，其中该第一及该第二污染物截留器中之一者的该等板在数量及/或角分布上与该第一及该第二污染物截留器中之另一者的该等板不同，以使得在任何旋转位置，该第一及该第二污染物截留器中之一者的该等板的一或多个阻止穿过该第一及该第二污染物截留器之另一者的辐射。 ;22.如请求项21之污染物截留系统，其中该污染物截留系统经配置以使得在使用中，当该光束离开该等污染物截留器时，于该辐射光束中存在一实质上预定之非均一性。 ;23.如请求项14之污染物截留系统，其中该等板之每一者于一铰链轴处装有铰链，每一铰链轴经定向以使得当对应之板处于一直平面中时，一与该铰链轴重合之虚拟线穿过该预定点延伸。 ;24.如请求项23之污染物截留系统，其中该等板之每一者包含一槽，该槽经定向以使得当对应之板处于一直平面中时，一与该槽之一纵向重合之虚拟线穿过该发光点延伸。 ;25.一种器件制造方法，其包含：使用一照明系统自一发光点实质上调节一辐射光束；及使用一截留系统将污染物粒子截留于该照明系统中，该截留系统包含一具有一中心区及一周边区之污染物截留器，该截留器包含复数个板，每一板自该中心区穿过该周边区实质向外延伸，其中该等板之每一者均具有一法线，该法线具有一朝向该中心区之分量，该复数个板经定向以使得与该复数个板重合之所有平面实质于该截留器外之一预定点处相交，该预定点与该照明系统之一发光点实质重合。 ;26.如请求项25之器件制造方法，其进一步包含将该复数个板围绕一旋转轴旋转，该旋转轴与一实质上穿过该发光点延伸之虚拟线重合。 ;27.如请求项26之器件制造方法，其中该截留系统包含一具有板之第一污染物截留器及一具有板之第二污染物截留器，该第一及该第二污染物截留器对准以使得自该发光点发出的某些光可穿过该第一及该第二污染物截留器传播，其中该方法进一步包含将该第一污染物截留器围绕一实质上穿过该发光点延伸之虚拟线而相对于该第二污染物截留器旋转。 ;28.如请求项27之器件制造方法，其中该方法进一步包含减少离开该第一及该第二污染物截留器之辐射光束中之一非均一性。 ;29.如请求项28之器件制造方法，其中该方法进一步包含：当该辐射光束离开该第一及该第二污染物截留器时，在该辐射光束中提供一预定之非均一性；在该第一及该第二污染物截留器下游将该辐射光束反射至一第一组反射元件上；及在该第一组反射元件下游将该辐射光束反射至一第二组反射元件上，该等反射元件之每一者具有一预定之尺寸及/或形状，以使得该预定之非均一性减少。 ;30.一种如请求项25之方法所制造之器件。 ;31.一种用于在一微影装置之一照明系统中改良污染物截留之方法，该方法包含经由一截留系统截留污染物，该系统包含一具有一中心区及一周边区之污染物截留器，该截留器包含复数个板，每一板自该中心区穿过该周边区实质向外延伸，其中该等板之每一者均具有一法线，该法线具有一朝向该中心区之分量，该复数个板经定向以得使与该复数个板重合之所有平面实质于该截留器外之一预定点处相交，该预定点与该照明系统之一发光点重合。 ;32.如请求项31之方法，其中该方法进一步包含将该复数个板围绕一旋转轴旋转，该旋转轴与一实质上穿过该发光点延伸之虚拟线重合。 ;33.如请求项32之方法，其中该截留系统包含一具有复数个板之第一污染物截留器及一具有复数个板之第二污染物截留器，该第一及该第二污染物截留器对准以使得自该发光点发出的某些光可穿过该第一及该第二污染物截留器传播，其中该方法进一步包含将该第一污染物截留器围绕一实质上穿过该发光点延伸之虚拟线而相对于该第二污染物截留器旋转。 ;34.如请求项33之方法，其中该方法进一步包含减少离开该第一及该第二污染物截留器之辐射光束中的一非均一性。 ;35.如请求项34之方法，其中该方法进一步包含：当该辐射光束离开该第一及该第二污染物截留器时，在该辐射光束中提供一预定之非均一性；在该第一及该第二污染物截留器下游将该辐射光束反射至一第一组反射元件上；及在该第一组反射元件下游将该辐射光束反射至一第二组反射元件上，该等反射元件之每一者具有一预定之尺寸及/或形状，以使得该预定之非均一性减少。 ;36.一种微影装置，其包含：一照明系统，其经组态以自一发光点实质上调节一辐射光束，其中该照明系统包含一污染物截留系统，该截留系统包含一具有复数个板之第一污染物截留器及一具有复数个板之第二污染物截留器，该第一及该第二污染物截留器对准以使得自该发光点发出的某些光可穿过该第一及该第二污染物截留器传播，其中该第一污染物截留器可围绕一实质上穿过该发光点延伸之虚拟线而相对于该第二污染物截留器旋转，其中该第一及该第二污染物截留器中之一者的该等板在数量及/或角分布上与该第一及该第二污染物截留器中之另一者的该等板不同，以使得在任何旋转位置，该一个污染物截留器之该等板中之一者阻止穿过该另一个污染物截留器之辐射。 ;37.如请求项36之微影装置，其中该第一及/或该第二污染物截留器具有一中心区及一周边区，且其之板穿过该周边区实质向外延伸，其中该等板中之一者具有一法线，该法线具有一朝向该中心区之分量。 ;38.如请求项36之微影装置，其中该第一及/或该第二污染物截留器之该等板的每一者于一铰链轴处装有铰链，每一铰链轴经定向以使得当对应之板处于一直平面中时，一与该铰链轴重合之虚拟线穿过该发光点延伸。 ;39.如请求项38之微影装置，其中该等板之该每一者包含一槽，该槽经定向以使得当对应之板处于一直平面中时，一与该槽之一纵向重合的虚拟线穿过该发光点延伸。 ;40.如请求项36之微影装置，其中该微影装置进一步包含一图案化装置，其能够于该辐射光束之横截面赋予该光束一图案，从而形成一经图案化之辐射光束，该照明系统经配置以在该图案化装置之上游减少该辐射光束中之一非均一性。 ;41.如请求项40之微影装置，其中该第一及该第二污染物截留器经配置以使得在使用中，当该辐射光束离开该第一及该第二污染物截留器时，于该辐射光束中存在一实质上预定之非均一性，该照明系统提供有一第一组反射元件及一第二组反射元件，该第一组之每一反射元件经配置以于该第一及该第二污染物截留器下游将该辐射光束之一部分反射至该第二组之一反射元件上，该第二组之每一反射元件经配置以在一进一步之光学路径中将该辐射光束朝向该图案化装置反射，每一反射元件具有一预定之位置及形状，以使得在使用中该辐射光束中之该预定之非均一性得以减少。 ;42.一种藉由请求项36之微影装置制造之器件。 ;43.一种用于一微影装置之一照明系统中之污染物截留系统，其中该截留系统包含一具有复数个板之第一污染物截留器及一具有复数个板之第二污染物截留器，该第一及该第二污染物截留对准以使得在使用中，自位于该第一及该第二污染物截留器以外的一预定点发出的某些光可穿过该第一及该第二污染物截留器传播，其中该第一污染物截留器可围绕一实质上穿过该预定点延伸之虚拟线而相对于该第二污染物截留器旋转，其中该第一及该第二污染物截留器中之一者的该等板在数量及/或角分布上与该第一及该第二污染物截留器中之另一者的该等板之数量及/或角分布不同。 ;44.如请求项43之截留系统，其中该第一及/或该第二污染物截留器具有一中心区及一周边区，该具有该中心区及该周边区之污染物截留器之该等板穿过该周边区实质向外延伸，其中具有该中心区及该周边区之该污染物截留器的该等板具有一法线，该法线具有一朝向该中心区之分量。 ;45.如请求项43之截留系统，其中该第一及/或该第二污染物截留器之该等板之每一者于一铰链轴处装有铰链，每一铰链轴经定向以使得当对应之板处于一直平面中时，一与该铰链轴重合之虚拟线穿过该发光点延伸。 ;46.如请求项45之截留系统，其中该等板之该每一者包含一槽，该槽经定向以使得当对应之板处于一直平面中时，一与该槽之一纵向重合之虚拟线穿过该发光点延伸。 ;47.如请求项43之截留系统，其中该污染物截留系统经配置以使得在使用中，当该光束离开该第一及该第二污染物截留器时，于该辐射光束中存在一实质上预定之非均一性。 ;48.一种微影装置，其包含：一照明系统，其经组态以自一发光点实质上调节一辐射光束，其中该照明系统包含一污染物截留系统，该截留系统包含一具有板之第一污染物截留器及一具有板之第二污染物截留器，该第一及该第二污染物截留器对准以使得自该发光点发出的光可穿过该第一及该第二污染物截留器传播，其中该第一污染物截留器可围绕一实质上穿过该发光点延伸之虚拟线而相对于该第二污染物截留器旋转；及一图案化装置，其能够于该辐射光束之横截面上赋予该光束一图案，从而形成一经图案化之辐射光束，该照明系统进一步经配置以在该图案化装置之上游减少该辐射光束中之一非均一性。 ;49.如请求项48之微影装置，其中该第一及该第二污染物截留器经配置以使得在使用中，当该光束离开该第一及该第二污染物截留器时，于该辐射光束中存在一实质上预定之非均一性，该照明系统提供有一第一组反射元件及一第二组反射元件，该第一组之每一反射元件经配置以于该第一及该第二污染物截留器之下游将该辐射光束之一部分反射至该第二组之一反射元件上，该第二组之每一反射元件经配置以在一进一步之光学路径上将该辐射光束朝向该图案化装置反射，每一反射元件具有一预定之位置及形状，以使得在使用中该辐射光束中之该预定之非均一性得以减少。 ;50.如请求项48之微影装置，其中该第一及该第二污染物截留器中之一者的该等板在数量及/或角分布上与该第一及该第二污染物截留器中之另一者不同。 ;51.如请求项48之微影装置，其中该第一及/或该第二污染物截留器具有一中心区及一周边区，具有该中心区及该周边区之该污染物截留器之该等板穿过该周边区实质向外延伸，其中具有该中心区及该周边区之该污染物截留器之该等板的每一者具有一法线，该法线具有一朝向该中心区之分量。 ;52.如请求项48之微影装置，其中该第一及/或该第二污染物截留器之该等板的每一者于一铰链轴处装有铰链，每一铰链轴经定向以使得当对应之板处于一直平面中时，一与该铰链轴重合之虚拟线穿过该发光点延伸。 ;53.如请求项52之微影装置，其中该等板之该每一者包含一槽，该槽经定向以使得当对应之板处于一直平面中时，一与该槽之一纵向重合的虚拟线穿过该发光点延伸。 ;54.一种藉由如请求项48之微影装置制造之器件。 ;55.一种用于一微影装置之一照明系统中之污染物截留系统，其中该截留系统包含一具有板之第一污染物截留器及一具有板之第二污染物截留器，该第一及该第二污染物截留器对准以使得在使用中，自位于该第一及该第二污染物截留器以外的一预定点发出的某些光可穿过该第一及该第二污染物截留器传播，其中该第一污染物截留器可围绕一实质上穿过该预定点延伸之虚拟线而相对于该第二污染物截留器旋转，其中该污染物截留系统经配置以使得在使用中，当该光束离开该第一及该第二污染物截留器时，于该辐射光束中存在一实质上预定之非均一性。 ;56.如请求项55之污染物截留系统，其中该第一及该第二污染物截留器经配置以使得在使用中，当该光束离开该第一及该第二污染物截留器时，于该辐射光束中存在一实质上预定之非均一性，该照明系统提供有一第一组反射元件及一第二组反射元件，该第一组之每一反射元件经配置以于该第一及该第二污染物截留器下游将该辐射光束之一部分反射至该第二组之一反射元件上，该第二组之每一反射元件经配置以于一进一步之光学路径中将该辐射光束朝向该图案化装置反射，每一反射元件具有一预定之位置及形状，以使得在使用中该辐射光束中之该预定之非均一性得以减少。 ;57.如请求项55之污染物截留系统，其中该第一及该第二污染物截留器中之一者的该等板在数量及/或角分布上与该第一及该第二污染物截留器中之另一者的该等板的数量及/或角分布不同。 ;58.如请求项55之污染物截留系统，其中该第一及/或该第二污染物截留器具有一中心区及一周边区，该具有该中心区及该周边区之该第一及/或该第二污染物截留器的该等板穿过该周边区实质向外延伸，其中该具有该中心区及该周边区之该第一及/或该第二污染物截留器的该等板的每一者具有一法线，该法线具有一朝向该中心区之分量。 ;59.如请求项55之污染物截留系统，其中该第一及/或该第二污染物截留器之该等板之每一者在一铰链轴处装有铰链，每一铰链轴经定向以使得当对应之板处于一直平面中时，一与该铰链轴重合之虚拟线穿过该发光点延伸。 ;60.如请求项59之污染物截留系统，其中该等板之该每一者包含一槽，该槽经定向以使得当对应之板处于一直平面中时，一与该槽之一纵向重合的虚拟线穿过该发光点延伸。 ;61.一种器件制造方法，其包含：使用一照明系统自一发光点实质上调节一辐射光束；使用一截留系统将污染物粒子截留于该照明系统中，该截留系统包含一具有板之第一污染物截留器之及一具有板之第二污染物截留器，该第一及该第二污染物截留器对准以使得自该发光点发出的某些光可穿过该第一及该第二污染物截留器传播；将该第一污染物截留器围绕一实质上穿过该发光点延伸之虚拟线而相对于该第二污染物截留器旋转；及减少离开该第一及该第二污染物截留器之该辐射光束中之一非均一性。 ;62.如请求项61之器件制造方法，其中该方法进一步包含：当该辐射光束离开该第一及该第二污染物截留器时，在该辐射光束中提供一预定之非均一性；在该第一及该第二污染物截留器下游将该辐射光束反射至一第一组反射元件上；及在该第一组反射元件下游将该辐射光束反射至一第二组反射元件上，该等反射元件之每一者具有一预定尺寸及/或形状，以使得该预定之非均一性减少。 ;63.一种如请求项61之方法所制造之器件。 ;64.一种微影装置，其包含：一照明系统，其经组态以自一发光点实质上调节一辐射光束，其中该照明系统包含一污染物截留系统，该截留系统包含一具有一中心区及一周边区之污染物截留器，该截留器包含复数个穿过该周边区实质向外延伸之板，其中该等板之每一者于一铰链轴处装有铰链，其中每一铰链轴经定向以使得当对应之板处于一直平面中时，一与该铰链轴重合之虚拟线穿过该发光点延伸。 ;65.如请求项64之微影装置，其中该等板之每一者包含一槽，该槽经定向以使得当对应之板处于一直平面中时，一与该槽之一纵向重合之虚拟线穿过该发光点延伸。 ;66.如请求项64之微影装置，其中该等板之每一者与一穿过该发光点延伸之虚拟平面重合。 ;67.如请求项66之微影装置，其中该等板之每一者具有一法线，该法线具有一朝向该中心区之分量。 ;68.如请求项64之微影装置，其中该中心区包含该复数个板可围绕旋转之一旋转轴，该旋转轴与一实质上穿过该发光点延伸之虚拟线重合。 ;69.如请求项64之微影装置，其中该截留系统包含复数个污染物截留器。 ;70.如请求项64之微影装置，其中该复数个板具有一相对于该中心区之旋转对称性。 ;71.如请求项64之微影装置，其中该污染物截留器提供有一驱动机构以旋转该截留器。 ;72.如请求项71之微影装置，其中该驱动机构位于该中心区以外。 ;73.如请求项64之微影装置，其中该截留系统包含一具有板之第一污染物截留器及一具有板之第二污染物截留器，该第一及该第二污染物截留器对准以使得自一发光点发出的某些光可穿过该第一及该第二污染物截留器传播，其中该第一污染物截留器可围绕一实质上穿过该发光点延伸之虚拟线而相对于该第二污染物截留器旋转。 ;74.如请求项73之微影装置，其中该第一或该第二污染物截留器之该等板在数量及/或角分布上与该第一及该第二污染物截留器中之另一者之该等板的数量及/或角分布不同，从而使得在任何旋转位置，该第一及该第二污染物截留器中之一者之该等板的一或多个阻止穿过该第一及该第二污染物截留器中之另一者的辐射。 ;75.如请求项73之微影装置，其中该微影装置进一步包含一图案化装置，其能够于该辐射光束之横截面赋予该光束一图案，从而形成一经图案化之辐射光束，该照明系统进一步经配置以在该图案化装置之上游减少该辐射光束中之一非均一性。 ;76.如请求项75之微影装置，其中该第一及该第二污染物截留器经配置以使得在使用中，当该光束离开该第一及该第二污染物截留器时，于该辐射光束中存在一实质上预定之非均一性，该照明系统提供有一第一组反射元件及一第二组反射元件，该第一组之每一反射元件经配置以于该第一及该第二污染物截留器之下游将该辐射光束之一部分反射至该第二组之一反射元件上，该第二组之每一反射元件经配置以在一进一步之光学路径上将该辐射光束朝向该图案化装置反射，每一反射元件具有一预定之位置及形状，以使得在使用中该辐射光束中之该预定之非均一性得以减少。 ;77.一种藉由如请求项64之微影装置制造之器件。 ;78.一种用于一微影装置之一照明系统中之污染物截留系统，该截留系统包含一具有一中心区及一周边区之污染物截留器，该截留器包含复数个穿过该周边区实质向外延伸之板，其中该复数个板之每一者在一铰链轴处装有铰链，其中每一铰链轴经定向以使得当对应之板处于一直平面中时，一与该铰链轴重合之虚拟线穿过一预定点延伸，该预定点意在与该微影装置之一发光点对应。 ;79.如请求项78之污染物截留系统，其中该等板之每一者包含一槽，该槽经定向以使得当对应之板处于一直平面中时，一与该槽之一纵向重合之虚拟线穿过该预定点延伸。 ;80.如请求项79之污染物截留系统，其中该中心区包含该复数个板可围绕旋转之一旋转轴，该旋转轴与一实质上穿过该预定点延伸之虚拟线重合。 ;81.如请求项80之污染物截留系统，其中该污染物截留器提供有一驱动机构以旋转该截留器。 ;82.如请求项81之污染物截留系统，其中该驱动机构位于该中心区以外。 ;83.如请求项78之污染物截留系统，其中该系统包含复数个污染物截留器。 ;84.如请求项78之污染物截留系统，其中该复数个板具有一相对于该中心区之旋转对称性。 ;85.如请求项78之污染物截留系统，其中该等板之每一者与一实质上穿过该预定点延伸之虚拟平面重合。 ;86.如请求项85之污染物截留系统，其中该复数个板之每一者具有一法线，该法线具有一朝向该中心区之分量。 ;87.如请求项78之污染物截留系统，其中该截留系统包含一具有板之第一污染物截留器及一具有板之第二污染物截留器，该第一及该第二污染物截留器对准以使得在使用中，自该预定点发出的某些光可穿过该第一及该第二污染物截留器传播，其中该第一污染物截留器可围绕一实质上穿过该预定点延伸之虚拟线而相对于该第二污染物截留器旋转。 ;88.如请求项87之污染物截留系统，其中该第一或该第二污染物截留器之该等板在数量及/或角分布上与该第一及该第二污染物截留器中之另一者之该等板的数量及/或角分布不同，以使得在任何旋转位置，该第一及该第二污染物截留器中之一者之该等板中的一个阻止穿过该第一及该第二污染物截留器中之另一者的辐射。 ;89.如请求项87之污染物截留系统，其中该污染物截留系统经配置以使得在使用中，当该光束离开该第一及该第二污染物截留器时，在该辐射光束中存在一实质上预定之非均一性。;图1图示根据本发明之一实施例的微影装置；图2示意性图示根据本发明之一实施例之微影装置的一部分；图3示意性图示根据本发明之一微影装置之实施例之的一部分；图4示意性图示图3所示之实施例的部分中在箭头A方向上之视图；图5示意性图示根据本发明之一微影装置之实施例的一部分的视图；图6示意性图示根据本发明之一实施例之微影装置的一部分；且图7示意性图示根据本发明之一实施例之一部分的板。