发明名称 Method for formation nanowire, laminated structure formed nanowire and method for manufacturing vertical semiconductor device and interconnect structure using thereof and vertical semiconductor device and interconnect structure comprising thereof
摘要
申请公布号 KR100969205(B1) 申请公布日期 2010.07.09
申请号 KR20080022730 申请日期 2008.03.12
申请人 发明人
分类号 H01L27/092;H01L21/8238 主分类号 H01L27/092
代理机构 代理人
主权项
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