| 发明名称 | 化学增幅正性抗蚀剂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种化学增幅正性抗蚀剂组合物，包含：含有在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元的树脂、以及产酸剂，其中，基于所有的结构单元，该树脂含有按摩尔计40％至90％的在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元，并且在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元包含由式(I)表示的结构单元：<img file="200910261381.8_AB_0.GIF" wi="219" he="175" />其中，R<sup>1</sup>代表氢原子或甲基基团，Z代表单键或-(CH<sub>2</sub>)<sub>k</sub>-CO-O-，k代表1至4的整数，R<sup>2</sup>在各种情况下独立地是C1-C6烷基基团，以及m代表0至14的整数。 | ||
| 申请公布号 | CN101770173A | 申请公布日期 | 2010.07.07 |
| 申请号 | CN200910261381.8 | 申请日期 | 2009.12.23 |
| 申请人 | 住友化学株式会社 | 发明人 | 宫川贵行;山本敏;藤裕介 |
| 分类号 | G03F7/039(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/039(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人 | 吴贵明;张英 |
| 主权项 | 1.一种化学增幅正性抗蚀剂组合物，包含：含有在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元的树脂、以及产酸剂，其中，基于所有的结构单元的总摩尔量，所述树脂包含按摩尔计40％至90％的所述在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元，并且所述在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元包含由式(I)表示的结构单元：<img file="F2009102613818C00011.GIF" wi="667" he="521" />其中，R<sup>1</sup>代表氢原子或甲基基团，Z代表单键或-(CH<sub>2</sub>)<sub>k</sub>-CO-O-，k代表1至4的整数，R<sup>2</sup>在各种情况下独立地是C1-C6烷基基团，以及m代表0至14的整数。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||