发明名称 | 光刻胶滴注系统、光刻胶喷嘴及其使用方法 | ||
摘要 | 本发明提供了一种光刻胶滴注系统、光刻胶喷嘴及其使用方法,该光刻胶滴注系统包括光刻胶供给装置、溶剂供给装置、与所述光刻胶供给装置相连的喷嘴,所述光刻胶喷嘴包括管状运输部件管状运输部件、和管状运输部件密封相连的存储部件,以及和存储部件密封相连的喷涂部件,其中存储部件的最大流量大于管状运输部件和喷涂部件的最大流量,所述存储部件用于喷嘴回吸时存储从所述溶剂供给装置内吸入的溶剂。该装置节省了资源,降低了成本,并且因为本发明中利用在喷嘴设置存储部件,使喷嘴代替了现有技术中的RRC喷嘴和光刻胶喷嘴,因此使得结构更加简单,操作方便。 | ||
申请公布号 | CN101762984A | 申请公布日期 | 2010.06.30 |
申请号 | CN200810208048.6 | 申请日期 | 2008.12.25 |
申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 安辉 |
分类号 | G03F7/16(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/16(2006.01)I |
代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 李丽 |
主权项 | 一种光刻胶滴注系统,包括光刻胶供给装置、溶剂供给装置、与所述光刻胶供给装置相连的喷嘴,其特征在于,所述光刻胶喷嘴包括管状运输部件管状运输部件、和管状运输部件密封相连的存储部件,以及和存储部件密封相连的喷涂部件,其中存储部件的最大流量大于管状运输部件和喷涂部件的最大流量,所述存储部件用于喷嘴回吸时存储从所述溶剂供给装置内吸入的溶剂。 | ||
地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 |