发明名称 可补偿Z向位置的六自由度精密定位台
摘要 本发明提供了一种可补偿Z向位置的六自由度精密定位台,结构上主要分成XY台和曝光台,XY台是一个水平向精密定位台,目的是通过一套水平向驱动器加精密、有效的传动机构加闭环控制实现水平向(X、Y向)的精确定位;曝光台从上到下主要分为旋转台、调平调焦机构、硅片厚度补偿机构三层,硅片交接机构位于旋转台和硅片厚度补偿机构的中间。本发明的可补偿Z向位置的六自由度精密定位平台,水平方向上可用于大行程、高速、高精度场合,垂向上可实现三个自由度的亚微米精度的调节。
申请公布号 CN101241314B 申请公布日期 2010.06.23
申请号 CN200810034478.0 申请日期 2008.03.11
申请人 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司 发明人 李志龙;李生强;董同社
分类号 G03F7/20(2006.01)I;B25H1/00(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 屈蘅;李时云
主权项 一种可补偿Z向位置的六自由度精密定位台,包括水平向定位台和曝光台,所述曝光台位于水平向定位台的上层,其特征在于:所述水平向定位台包括基础平台及两个X向直线电机和两个Y向直线电机,该两个X向直线电机的定子分别固定在基础平台的两侧,该两个X向直线电机的动子之间依次通过X向连接板、X向L形导轨、Y向导轨、X向平导轨及两个X向连接块固连在一起,该两个Y向直线电机沿X向分布,该两个Y向直线电机的定子分别固设于固连在所述X向L形导轨与所述X向平导轨之间的两个横梁,该两个Y向直线电机的动子分别和两个气足侧板固连,所述气足侧板固定在气浮于基础平台上的气足底板上;所述曝光台包括旋转台、调平调焦机构和硅片厚度补偿机构,所述旋转台除承载硅片外还要完成Rz向调节,其通过三个柔性件与调平调焦机构的上平板相连,所述调平调焦机构与硅片厚度补偿机构相连,所述硅片厚度补偿机构下设有气足,所述Y向导轨穿过气足。
地址 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
您可能感兴趣的专利