| 发明名称 | 一种光纤端面的镀膜方法 | ||
| 摘要 | 一种光纤端面的镀膜方法，属于光纤镀膜技术领域。其特征在于，包括以下步骤：(1)取一小段光纤作为镀膜光纤，去除所述镀膜光纤的涂敷层，露出光纤包层；(2)在10-4～10-3Pa的压力下，在环境温度为16℃～30℃时，采用真空镀膜的方法，在所述待镀膜端面镀制至少包括反射膜或增透膜、或半反半透膜在内的任何一种光学薄膜；(3)将步骤(2)得到的已镀膜光纤的另一端面与待使用光纤的一个端面熔接，完成对所述待使用光纤端面薄膜的镀制。本发明由于采用将待镀膜光纤进行预处理的方法，提高了镀膜基底的耐热能力，避免了涂敷层材料挥发对光纤端面造成的污染；同时，先将小段光纤镀膜再与待使用光纤连接的方法，避免了镀膜过程对大段光纤性能的影响；本方法还可以用于高温镀膜过程。 | ||
| 申请公布号 | CN101750676A | 申请公布日期 | 2010.06.23 |
| 申请号 | CN201010034309.4 | 申请日期 | 2010.01.15 |
| 申请人 | 清华大学 | 发明人 | 巩马理;闫平;张海涛;郝金坪;廖素英 |
| 分类号 | G02B6/24(2006.01)I | 主分类号 | G02B6/24(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人 | 朱琨 |
| 主权项 | 一种光纤端面的镀膜方法，其特征在于，依次含有以下步骤：步骤(1)：取一小段光纤作为镀膜光纤，去除所述镀膜光纤的涂敷层，露出光纤包层；步骤(2)：在10-4～10-3pa的压力下，在环境温度为16℃～30℃时，采用真空镀膜的方法，在所述待镀膜端面镀制至少包括反射膜或增透膜、或半反半透膜在内的任何一种光学薄膜；步骤(3)：将步骤(2)得到的已镀膜光纤的另一端面与待使用光纤的一个端面熔接，完成对所述待使用光纤端面薄膜的镀制。 | ||
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