发明名称 一种制备ZnO纳米线悬浮的背栅场效应管的方法
摘要 本发明公开了一种制备ZnO纳米线悬浮的背栅场效应管的方法,包括:高掺杂的P++衬底准备;在高掺杂的P++衬底的正面蒸发一层SiO2形成栅氧;采用HF湿法腐蚀去掉高掺杂P++衬底背面的氧化层,背金形成栅极;在栅氧上光刻蒸发源漏金属电极;采用乙醇水解超声的方法使ZnO纳米线从本征玻璃衬底上面剥离下来;将剥离下来的单条ZnO纳米线随机滴入P型Si衬底的源漏金属电极上进行定位,使ZnO纳米线作为场效应晶体管的沟道将源漏电极搭接起来,形成ZnO纳米线悬浮的背栅场效应管。本发明具有成效明显,工艺简单易行,经济适用和可靠性强的优点,容易在微波、毫米波化合物半导体器件制作中采用和推广。
申请公布号 CN101752257A 申请公布日期 2010.06.23
申请号 CN200810240075.1 申请日期 2008.12.17
申请人 中国科学院微电子研究所 发明人 黎明;徐静波;付晓君
分类号 H01L21/336(2006.01)I 主分类号 H01L21/336(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 周国城
主权项 一种制备ZnO纳米线悬浮的背栅场效应管的方法,该方法包括:制备高掺杂的P++衬底;在高掺杂的P++衬底的正面蒸发一层SiO2形成栅氧;采用HF湿法腐蚀去掉高掺杂P++衬底背面的氧化层,背金形成栅极;在栅氧上光刻蒸发源漏金属电极;采用乙醇水解超声的方法使ZnO纳米线从本征玻璃衬底上面剥离下来;将剥离下来的单条ZnO纳米线随机滴入P型Si衬底的源漏金属电极上进行定位,使ZnO纳米线作为场效应晶体管的沟道将源漏电极搭接起来,形成ZnO纳米线悬浮的背栅场效应管。
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