发明名称 |
光酸产生剂、共聚物、抗蚀剂组合物及使用所述抗蚀剂组合物形成图形的方法 |
摘要 |
本发明提供了一种光酸产生剂、共聚物、化学放大型抗蚀剂组合物和使用所述化学放大型抗蚀剂组合物形成图形的方法。所述光酸与所述共聚物的主链有联系,借此,所述光酸被等同地分散在抗蚀剂层内部,且抗蚀剂图形的线边缘粗糙度的特性被提高。 |
申请公布号 |
CN101750888A |
申请公布日期 |
2010.06.23 |
申请号 |
CN200910171536.9 |
申请日期 |
2009.08.28 |
申请人 |
韩国锦湖石油化学株式会社 |
发明人 |
吴贞薰;金相珍;金真湖;申大铉 |
分类号 |
G03F7/004(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01)I |
代理机构 |
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 |
代理人 |
臧建明 |
主权项 |
1.一种由化学式1表示的光酸产生剂,[化学式1]<img file="F2009101715369C0000011.GIF" wi="800" he="285" />其中,R<sub>1</sub>是一个氢原子、三氟甲基、C<sub>1</sub>-C<sub>5</sub>烷基或C<sub>1</sub>-C<sub>5</sub>烷氧基,R<sub>2</sub>和R<sub>3</sub>分别是线性或支化型C<sub>1</sub>-C<sub>20</sub>烷基、芳基、线性或支化型C<sub>1</sub>-C<sub>20</sub>全氟化烷基、苄基或C<sub>6</sub>-C<sub>20</sub>芳基,且A-是由化学式2表示的化合物,[化学式2]<img file="F2009101715369C0000012.GIF" wi="728" he="156" />其中,X<sub>1</sub>是单环或多环的C<sub>3</sub>-C<sub>20</sub>烃基、苄基、C<sub>6</sub>-C<sub>20</sub>芳基、C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>烷基、C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>烷氧基、C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>羟烷基或氰基,所述单环或多环的C<sub>3</sub>-C<sub>20</sub>烃基中的至少一个氢原子被或不被醚基、酯基、羰基、缩醛基、腈基、氰基、羟基、羧基或醛基所取代,R是C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>烷基、C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>烷氧基、氮原子、硫原子或氧原子,且m是0到2的正整数。 |
地址 |
韩国首尔市 |