| 发明名称 | 形成图像传感器的微透镜的方法和制造图像传感器的方法 | ||
| 摘要 | 公开了形成图像传感器的微透镜的方法和制造图像传感器的方法。在一个实施例中，用于形成图像传感器的微透镜的方法包括：在图像传感器的衬底上涂覆用于形成微透镜的光致抗蚀剂；允许激光入射到光致抗蚀剂的内部以生成驻波，激光影响光致抗蚀剂的位于激光振幅范围中的部分；以及通过固化具有受激光影响的部分的光致抗蚀剂来形成微透镜。借助所提出的用于形成微透镜的方法，通过例如调节激光的波长，可以形成各种尺寸的微透镜，也可以形成精细尺寸的微透镜。 | ||
| 申请公布号 | CN101738853A | 申请公布日期 | 2010.06.16 |
| 申请号 | CN200910208724.4 | 申请日期 | 2009.11.05 |
| 申请人 | 东部高科股份有限公司 | 发明人 | 金明洙 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I;H01L27/146(2006.01)I;H01L21/82(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 朱胜;王萍 |
| 主权项 | 一种用于形成图像传感器的微透镜的方法，包括：在用于所述图像传感器的衬底上涂覆用于形成微透镜的光致抗蚀剂；允许激光以水平方向入射到所述光致抗蚀剂的内部，所述激光影响所述光致抗蚀剂的位于所述激光的振幅范围中的部分；以及通过固化具有所述受激光影响的部分的光致抗蚀剂来形成微透镜。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||