| 发明名称 | 用于785纳米波段熔融石英透射1×3偏振无关分束光栅 | ||
| 摘要 | 一种用于785纳米波段的熔融石英透射1×3偏振无关分束光栅，是一种矩形高密度深刻蚀光栅，该光栅的周期为1064-1072纳米、刻蚀深度为2.580-2.602微米，光栅的占空比为0.5。本发明可以使TE偏振光0级衍射和±1级衍射的效率分别为32.47％和32.51％，TM偏振光0级衍射和±1级衍射的效率分别为32.95％和32.97％，总衍射效率均高于97％，对TE和TM偏振光可以同时实现近乎理想的高效率1×3分束。 | ||
| 申请公布号 | CN101339264B | 申请公布日期 | 2010.06.16 |
| 申请号 | CN200810041642.0 | 申请日期 | 2008.08.13 |
| 申请人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明人 | 周常河;冯吉军 |
| 分类号 | G02B5/18(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人 | 张泽纯 |
| 主权项 | 一种用于785纳米波段的熔融石英透射1×3偏振无关分束光栅，是一种矩形高密度深刻蚀光栅，光栅的占空比为0.5，其特征在于该光栅的周期的取值范围为1064-1072纳米、刻蚀深度范围为2.580-2.602微米。 | ||
| 地址 | 201800 上海市800-211邮政信箱 | ||