发明名称 |
埋栅太阳能电池的制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种埋栅太阳能电池的制造方法,采用化学腐蚀的方法形成沉积埋栅电极所需要的沟槽;通过在沟槽内填充包括Ag、掺杂源和玻璃料的自掺杂浆料,并加热到845℃以上,进行烧结,浆料中的玻璃料可以烧透SiN减反射层,使浆料直接与下层Si接触,在界面处Ag使Si溶化为液体,当温度降低时,一方面部分Si溶入Ag中形成Ag-Si接触,降低了接触电阻;另一方面Si重新晶化,使掺杂源扩散进入Si晶格中,形成重掺杂深扩散区,制成埋栅电极,简化了生产工艺,降低了生产成本。 |
申请公布号 |
CN101740659A |
申请公布日期 |
2010.06.16 |
申请号 |
CN200810225928.4 |
申请日期 |
2008.11.06 |
申请人 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
发明人 |
肖青平 |
分类号 |
H01L31/18(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/18(2006.01)I |
代理机构 |
北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 |
代理人 |
赵镇勇 |
主权项 |
一种埋栅太阳能电池的制造方法,其特征在于,包括步骤:A、在基片正面形成用于制作埋栅电极的沟槽;B、在所述基片正面沉积减反射层;C、在所述沟槽内填充自掺杂浆料,所述自掺杂浆料包括颗粒形态的Ag、液体形态的掺杂源和玻璃料;D、将步骤C之后的基片进行加热烧结,形成所述埋栅电极。 |
地址 |
100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 |