发明名称 埋栅太阳能电池的制造方法
摘要 本发明公开了一种埋栅太阳能电池的制造方法,采用化学腐蚀的方法形成沉积埋栅电极所需要的沟槽;通过在沟槽内填充包括Ag、掺杂源和玻璃料的自掺杂浆料,并加热到845℃以上,进行烧结,浆料中的玻璃料可以烧透SiN减反射层,使浆料直接与下层Si接触,在界面处Ag使Si溶化为液体,当温度降低时,一方面部分Si溶入Ag中形成Ag-Si接触,降低了接触电阻;另一方面Si重新晶化,使掺杂源扩散进入Si晶格中,形成重掺杂深扩散区,制成埋栅电极,简化了生产工艺,降低了生产成本。
申请公布号 CN101740659A 申请公布日期 2010.06.16
申请号 CN200810225928.4 申请日期 2008.11.06
申请人 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 发明人 肖青平
分类号 H01L31/18(2006.01)I 主分类号 H01L31/18(2006.01)I
代理机构 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 代理人 赵镇勇
主权项 一种埋栅太阳能电池的制造方法,其特征在于,包括步骤:A、在基片正面形成用于制作埋栅电极的沟槽;B、在所述基片正面沉积减反射层;C、在所述沟槽内填充自掺杂浆料,所述自掺杂浆料包括颗粒形态的Ag、液体形态的掺杂源和玻璃料;D、将步骤C之后的基片进行加热烧结,形成所述埋栅电极。
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