| 发明名称 | 等离子体处理装置及其所使用的电极 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种等离子体处理装置，能够遍及从中心部到周缘部的宽广范围进一步减小电极表面的电场分布不均匀，能够生成极高均匀性的等离子体，其中，上部电极(300)包括：电极板(310)，与构成下部电极的基座(116)相对；电极支撑体(320)，与电极板的下部电极侧的相反侧的面接合，以及支撑电极板，在电极支撑体的与电极板的接合面上，设置中心部和周缘部的高度不同的形状的空洞部(330)。 | ||
| 申请公布号 | CN101038859B | 申请公布日期 | 2010.06.16 |
| 申请号 | CN200710088335.3 | 申请日期 | 2007.03.15 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 舆石公;铃木隆司 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I;C23C16/509(2006.01)I;H05H1/34(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 一种电极，用作等离子体处理装置的第一电极，该等离子体处理装置在处理室内相对设置有所述第一电极和第二电极，一边向支撑在所述第二电极上的被处理基板之上导入处理气体，一边向所述电极的一个或者两个供给高频电力，生成等离子体，通过这样，对所述被处理基板进行规定的等离子体处理，其特征在于，包括：电极板，与所述第二电极相对；支撑体，与所述电极板的所述第二电极侧的相反侧的面接合，支撑所述电极板；以及电介质部，设置在所述支撑体的与所述电极板的接合面上，形成为中心部和周缘部的高度不同的形状。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||