发明名称 |
柔性衬底硅基薄膜太阳电池 |
摘要 |
本发明公开了一种柔性衬底硅基薄膜太阳电池,包括衬底S为不透明和透明柔性材料,且太阳电池的结构为P型硅基薄膜/I型硅基薄膜/N型硅基薄膜,所述P型硅基薄膜采用微晶硅、微晶硅碳或微晶硅氧,也可为纳米硅、纳米硅碳或纳米硅氧,I型硅基薄膜采用微晶硅、微晶硅锗或纳米硅、纳米硅锗,N型硅基薄膜采用微晶硅、微晶硅碳或微晶硅氧,也可为纳米硅、纳米硅碳或纳米硅氧。本发明利用微晶硅基或纳米硅基薄膜材料电子和空穴迁移率具有相同数量级的特性,将目前应用于玻璃衬底上比较成熟的P/I/N电池技术合理转移到柔性衬底上,较容易实现工艺的转移。 |
申请公布号 |
CN101257056B |
申请公布日期 |
2010.06.16 |
申请号 |
CN200810052621.9 |
申请日期 |
2008.04.07 |
申请人 |
南开大学 |
发明人 |
张晓丹;赵颖;魏长春;耿新华;熊绍珍 |
分类号 |
H01L31/075(2006.01)I;H01L31/045(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/075(2006.01)I |
代理机构 |
天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 |
代理人 |
侯力 |
主权项 |
一种柔性衬底硅基薄膜太阳电池,包括衬底S、金属M、透明导电薄膜T1、P型硅基薄膜、I型本征硅基薄膜、N型硅基薄膜和透明导电薄膜T2,其特征在于:所述硅基薄膜太阳电池以柔性材料为衬底,且该硅基薄膜太阳电池的结构为P型硅基薄膜/I型硅基薄膜/N型硅基薄膜,所述P型硅基薄膜、I型硅基薄膜和N型硅基薄膜皆采用微晶硅基或纳米硅基薄膜,其中,P型硅基薄膜采用微晶硅、微晶硅碳、微晶硅氧、纳米硅、纳米硅碳或纳米硅氧,I型硅基薄膜采用微晶硅、微晶硅锗、纳米硅或纳米硅锗,N型硅基薄膜采用微晶硅、微晶硅碳、微晶硅氧、纳米硅、纳米硅碳或纳米硅氧。 |
地址 |
300071 天津市南开区卫津路94号 |