| 发明名称 | 感测薄膜及应用其的微机电系统装置 | ||
| 摘要 | 一种应用于一微机电系统装置中的感测薄膜，包括一本体、一应力分散结构以及一连接部。应力分散结构围绕本体，用以分散一薄膜残留应力(residual stress)。应力分散结构具有多个第一贯穿孔(perforation)及多个第二贯穿孔，第一贯穿孔位于本体与第二贯穿孔之间。连接部连接应力分散结构及微机电系统装置的一基板。 | ||
| 申请公布号 | CN101734606A | 申请公布日期 | 2010.06.16 |
| 申请号 | CN200810178203.4 | 申请日期 | 2008.11.14 |
| 申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 吴嘉昱;陈建铭 |
| 分类号 | B81B7/00(2006.01)I;G01P15/097(2006.01)I | 主分类号 | B81B7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 汤保平 |
| 主权项 | 一种感测薄膜，应用于一微机电系统装置中，该感测薄膜包括：一本体；一应力分散结构，围绕该本体，用以分散一薄膜残留应力，该应力分散结构具有多个第一贯穿孔及多个第二贯穿孔，所述第一贯穿孔位于该本体与所述第二贯穿孔之间；以及一连接部，连接该应力分散结构及该微机电系统装置的一基板。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹县 | ||