曝光方法和曝光装置

摘要

本发明提供一种将光掩模上描绘的图案转印到基板上的曝光方法和曝光装置。将光掩模配置在覆盖基板的位置。形成光掩模和基板相互均匀地接触，并且光掩模和基板相对于各自变形为凹状或凸状的状态。在该状态下，通过光掩模对基板上的感光层照射光，由此将尺寸实质上已变化的图案转印到基板上。

主权项

一种曝光方法，将描绘有图案的光掩模配置在表面形成有感光层的基板的覆盖感光层的位置，在所述光掩模和所述基板相互均匀地接触且所述光掩模和所述基板相对于各自变形为凹状或凸状的状态下，通过所述光掩模对所述感光层照射光，由此将尺寸已变化的所述图案转印到所述基板上，所述曝光方法的特征在于，所述基板与所述光掩模的厚度相互不同，在所述光掩模和所述基板的相互对应的位置分别设置有对位标记，通过标记检测机构检测该对位标记，根据检测出的数据，运算所述光掩模和所述基板的对位标记间的位置偏移量，按照运算结果，控制使所述光掩模和所述基板变形为凹状或凸状的变形量。