发明名称 |
微影装置及元件制造方法 |
摘要 |
本发明揭示一种浸没式微影装置,其具有藉由防止气泡自隙缝中逃逸至光束路径及/或提取可在该隙缝中形成之气泡来防止或减少在基板台中的一或多个隙缝中形成气泡的适应性。 |
申请公布号 |
TWI326004 |
申请公布日期 |
2010.06.11 |
申请号 |
TW095114175 |
申请日期 |
2006.04.20 |
申请人 |
ASML公司 |
发明人 |
包伯 史卡克;史乔德 尼可拉斯 莱伯特斯 当德斯;丹 葛瑞夫 罗芙 佛德瑞克;亚历山大 克里斯汀恩 胡格丹;马汀斯 汉德利克斯 安东尼斯 里恩德斯;乔洛恩 乔恩斯 苏菲亚 马莉亚 马丁斯;米歇尔 瑞潘 |
分类号 |
G03F7/00 |
主分类号 |
G03F7/00 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
一种微影装置,其经组态以经由一液体将一所要图案之一影像投影至一固持于一基板台上之基板上,在该基板台与该基板之一外部边缘之间或在该基板台与该基板台上安装之在正常使用中该液体可与之相接触的一感测器或基准板之间,在该基板台之一表面上存在一隙缝,该隙缝具备一经组态以将可发生之任何气泡保持于该隙缝中的气泡保持元件。 |
地址 |
荷兰 |