发明名称 一种腔室压力控制方法、装置及控制系统
摘要 本发明提供一种腔室压力控制方法,包括:步骤100,根据腔室压力与输气流量的对应关系,得到腔室处于目标压力时所需的输气目标流量。步骤200,将输气目标流量设置为质量流量控制器的流量设定值,质量流量控制器基于该流量设定值对腔室实施输气操作,并将腔室压力控制在目标压力范围内。本发明提供的腔室压力控制方法还包括获得腔室压力与输气流量之间对应关系的步骤。另外,本发明还提供一种腔室压力控制装置、应用上述方法的腔室压力控制系统及应用上述装置的腔室压力控制系统。本发明采用价格相对低廉的质量流量控制器和简单的控制步骤代替价格昂贵的控压阀,在有效控制腔室压力的同时,节约了工艺/设备的成本。
申请公布号 CN101727111A 申请公布日期 2010.06.09
申请号 CN200810224273.9 申请日期 2008.10.15
申请人 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 发明人 张京华;刘畅
分类号 G05D16/20(2006.01)I;G05D16/14(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I 主分类号 G05D16/20(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 张天舒;陈源
主权项 一种腔室压力控制方法,其特征在于借助于设置在腔室输气管路上的质量流量控制器而将腔室压力控制在目标压力范围内,包括下述步骤:100)根据腔室压力与输气流量之间的对应关系,得到腔室处于目标压力时所需的输气目标流量;200)将所述输气目标流量设置为所述质量流量控制器的流量设定值,所述质量流量控制器基于所述流量设定值而对所述腔室实施输气操作,并将腔室压力控制在目标压力范围内。
地址 100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层
您可能感兴趣的专利