发明名称 可录式蓝光超分辨近场结构光盘
摘要 一种可录式蓝光超分辨近场光盘结构,包括盘基、记录层,金属反射层,特点是在所述的盘基和记录层之间还有第一保护层、掩膜层和第二保护层,所述的记录层的材料为有机染料,该记录层的厚度为60~120nm;所述的第一保护层的厚度为100~170nm,第二保护层的厚度为10~30nm。本发明光盘使用蓝光(405nm)记录设备记录时,该光盘有机染料记录层上记录点的尺寸较BD-R更小,可获得更高的存储密度。
申请公布号 CN101719374A 申请公布日期 2010.06.02
申请号 CN200910198959.X 申请日期 2009.11.18
申请人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明人 李小怡;姜来新;吴谊群;魏劲松;耿永友;王阳
分类号 G11B7/242(2006.01)I;G11B7/26(2006.01)I 主分类号 G11B7/242(2006.01)I
代理机构 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人 张泽纯
主权项 一种可录式蓝光超分辨近场光盘结构,包括盘基(1)、记录层(5)、金属反射层(6),其特征是在所述的盘基(1)和记录层(5)之间还有第一保护层(2)、掩膜层(3)和第二层保护层(4),所述的记录层(5)的材料为有机染料,该记录层(5)的厚度为60~120nm;所述的第一保护层(2)的厚度为100~170nm;第二保护层(4)的厚度为10~30nm。
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