发明名称 用于百兆级850nm光通讯的光接收组件和制备方法
摘要 用于百兆级850nm光通讯的光接收组件和制备方法,提供一种与商业CMOS工艺兼容,可替代现有850nm光收发器中混合集成,可满足传输要求的用于百兆级850nm光通讯的光接收组件和制备方法。光接收组件设850nm光电单片集成接收芯片、管座、管帽、管脚和适配器。芯片设前置放大电路和光电探测器,前者设2个互阻式放大电路、3级差分放大器、输出缓冲电路和直流负反馈电路。光电探测器的纵向自下而上是低掺杂的P型硅衬底;P阱;N型重掺杂硅层、场氧层和铝层;三层SiO2绝缘介质层;Si3N4表面钝化层。采用CMOS工艺将芯片贴片于管座上;将芯片的焊盘与管脚用金丝线键合连接;盖上管帽,与适配器按同轴封装。
申请公布号 CN101718897A 申请公布日期 2010.06.02
申请号 CN200910112910.8 申请日期 2009.12.03
申请人 厦门大学 发明人 程翔;陈朝;颜黄苹;李继芳
分类号 G02B6/42(2006.01)I;H01L23/48(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I 主分类号 G02B6/42(2006.01)I
代理机构 厦门南强之路专利事务所 35200 代理人 马应森
主权项 用于百兆级850nm光通讯的光接收组件,其特征在于设有850nm光电单片集成接收芯片、管座、管帽、管脚和光接收组件适配器,管帽设在管座上,850nm光电单片集成接收芯片设在管座上,管脚设于管座底部,850nm光电单片集成接收芯片与管脚通过导线连接,光接收组件适配器设于管帽顶部;所述850nm光电单片集成接收芯片设有前置放大电路和光电探测器,前置放大电路和光电探测器均采用标准CMOS工艺制备在同一个硅衬底上;所述前置放大电路设有2个互阻式放大电路、3级差分放大器、输出缓冲电路和直流负反馈电路;光电探测器的2个输出端分别连接一个互阻式放大电路,2个互阻式放大电路的输出端分别作为差分放大器的2个输入端;直流互反馈电路由4个反馈电阻组成,4个反馈电阻两两串联分别连接差分放大器的输入端和输出端;差分放大器的2个输出端分别作为输出缓冲电路的输入端;所述850nm光电单片集成接收芯片由光电探测器接收的光信号为其输入端,输出缓冲电路的2个输出端即为所述850nm光电单片集成接收芯片的输出端;所述光电探测器的纵向结构自下而上依次是:第一层是低掺杂的P型硅衬底;第二层是P阱;第三层是N型重掺杂硅层、场氧层和金属铝层;第四层到第六层为三层的SiO2绝缘介质层;第七层是Si3N4表面钝化层;所述光电探测器的横向结构设有10个长方形的P阱区,所述10个长方形的P阱区中的单指的P阱宽度为3μm,长度为70μm,两个P阱的间隔宽度为4μm;在间隔P阱区上采用屏蔽金属铝层覆盖并与未被金属屏蔽P阱交叉,其中屏蔽金属区的宽度为7μm,长度为71.6μm,两金属区间距为14μm。
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