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发明名称
偏光片保护膜制造装置及其偏光片保护膜
摘要
本创作之保护膜系藉由卷对卷(roll to roll)连续性制造装置所制成,使该上、下保护膜双面均为光滑面,且该上、下保护膜在可见光光谱的平均穿透率超过91%,且光线通过该上、下保护膜所产生之相位延迟不超过7nm,使该保护膜可取代有TAC保护膜,并大为降低偏光片之成本。
申请公布号
TWM381791
申请公布日期
2010.06.01
申请号
TW098212716
申请日期
2009.07.10
申请人
硕正科技股份有限公司
发明人
杨允斌
分类号
G02B5/30
主分类号
G02B5/30
代理机构
代理人
主权项
一种偏光片保护膜制造装置,其至少包含有:辅助载体;成型材料提供组件,该成型材料提供组件系设于该辅助载体一侧,该辅助载体上则布设有成型层;镜面轮,该镜面轮系设于成型材料提供组件后方,且相对于该成型层上方,以对该成型层进行镜面处理;固化组件,该固化组件系设于预成型组件后方,将该成型层固化成型;分离组件,该分离组件系设于固化组件后方,以将该成型层与该辅助载体相互分离,而完成保护膜之成品。
地址
桃园县中坜市荣民路447号
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