发明名称 一种可变间隙止动装置、一种半导体处理装置及一种用以使驱动单元的移动停止的方法
摘要 一种可变间隙停止动装置(30、32)其能够使一驱动单元的移动停止,例如一汽缸可在一半导体处理设备中移动固定有一半导体晶片的夹盘(21),该汽缸驱动单元包括至少一个定位表面。一可移动的间隙止动单元(33、34)包括至少一个止动表面,在一较佳的具体实施例中,可包括在不同高度处的二个或更多不同的止动表面。一汽缸(31)移动所述可移动的间隙止动单元,以使至少一个止动表面系与驱动单元的所述至少一个定位表面对齐或不对齐。利用该结构与操作,驱动单元的至少一个定位表面可紧靠着可移动的间隙止动单元的可变止动表面。以驱动单元的定位表面所紧靠着的多个止动表面为基础,可以控制汽缸移动夹盘的高度,从而控制半导体处理室内夹盘的高度。因此,本发明提供一种可简单地加以控制的方式,以致一物体诸如半导体晶片可在一装置内(诸如一处理室)可简单且有效率地以可变化的高度加以配置。
申请公布号 CN1426284B 申请公布日期 2010.05.26
申请号 CN01808771.X 申请日期 2001.04.27
申请人 东京电子株式会社 发明人 詹姆斯·A·伊森;汤姆·哈梅林;马蒂·肯特
分类号 B23Q5/02(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I 主分类号 B23Q5/02(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 范莉
主权项 一种可变间隙止动装置,用以使包括至少一个定位表面的驱动单元的移动停止,包括:一可移动的间隙止动单元,其包括至少第一和第二止动表面,各止动表面位于不同的高度;一汽缸,其用以使该可移动的间隙止动单元移动,以使该至少第一和第二止动表面与一个位置对齐或不对齐,从而接触所述驱动单元的所述至少一个定位表面。
地址 日本东京