发明名称 氮化物类半导体激光元件及其制造方法
摘要 本发明提供一种氮化物类半导体激光元件及其制造方法。该氮化物类半导体激光元件,具备:氮化物类半导体层,其形成于由氮化物类半导体构成的活性层上;和俯视时具有元件所需要的形状的电极层,该电极层包括:形成于氮化物类半导体层的与活性层相反侧的表面上且由Pt构成的第一金属层、形成于第一金属层的表面上且由Pd构成的第二金属层、和形成于第二金属层的表面上且由Pt构成的第三金属层。而且,第三金属层的厚度为第一金属层的厚度的10倍以上30倍以下。
申请公布号 CN101714743A 申请公布日期 2010.05.26
申请号 CN200910178590.6 申请日期 2009.09.29
申请人 三洋电机株式会社 发明人 西川学;太田洁;市桥由成
分类号 H01S5/00(2006.01)I;H01S5/343(2006.01)I;H01S5/22(2006.01)I;H01S5/02(2006.01)I 主分类号 H01S5/00(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳
主权项 一种氮化物类半导体激光元件,其特征在于,具备:氮化物类半导体层,其形成于由氮化物类半导体构成的活性层上;和俯视时具有规定的形状的电极层,该电极层包括:形成于所述氮化物类半导体层的与所述活性层相反侧的表面上且由Pt构成的第一金属层、形成于所述第一金属层的表面上且由Pd构成的第二金属层、和形成于所述第二金属层的表面上且由Pt构成的第三金属层,所述第三金属层的厚度为所述第一金属层的厚度的10倍以上30倍以下。
地址 日本大阪府