发明名称 |
氮化物类半导体激光元件及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种氮化物类半导体激光元件及其制造方法。该氮化物类半导体激光元件,具备:氮化物类半导体层,其形成于由氮化物类半导体构成的活性层上;和俯视时具有元件所需要的形状的电极层,该电极层包括:形成于氮化物类半导体层的与活性层相反侧的表面上且由Pt构成的第一金属层、形成于第一金属层的表面上且由Pd构成的第二金属层、和形成于第二金属层的表面上且由Pt构成的第三金属层。而且,第三金属层的厚度为第一金属层的厚度的10倍以上30倍以下。 |
申请公布号 |
CN101714743A |
申请公布日期 |
2010.05.26 |
申请号 |
CN200910178590.6 |
申请日期 |
2009.09.29 |
申请人 |
三洋电机株式会社 |
发明人 |
西川学;太田洁;市桥由成 |
分类号 |
H01S5/00(2006.01)I;H01S5/343(2006.01)I;H01S5/22(2006.01)I;H01S5/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01S5/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 |
代理人 |
龙淳 |
主权项 |
一种氮化物类半导体激光元件,其特征在于,具备:氮化物类半导体层,其形成于由氮化物类半导体构成的活性层上;和俯视时具有规定的形状的电极层,该电极层包括:形成于所述氮化物类半导体层的与所述活性层相反侧的表面上且由Pt构成的第一金属层、形成于所述第一金属层的表面上且由Pd构成的第二金属层、和形成于所述第二金属层的表面上且由Pt构成的第三金属层,所述第三金属层的厚度为所述第一金属层的厚度的10倍以上30倍以下。 |
地址 |
日本大阪府 |