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发明名称 PLASMA PROCESS APPARATUS, FOCUS RING, FOCUS RING COMPONENT AND PLASMA PROCESS METHOD
摘要
申请公布号 KR100959706(B1) 申请公布日期 2010.05.25
申请号 KR20090008912 申请日期 2009.02.04
申请人 发明人
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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