发明名称 |
对具有涂层的处理腔组件进行清洁的方法 |
摘要 |
在一种清洁和修整一个具有金属涂层的处理腔组件的方法中,其中金属涂层上具有一个表面,所述金属涂层的表面被浸入一种酸性溶液中,以从所述表面除去至少一部分的处理沉积物。此后,所述金属涂层表面被浸入到一种碱性溶液中,以基本上除去所有的金属涂层。可选地,可对所述组件进行喷丸处理以使所述组件的表面粗糙,并重新形成所述金属涂层。 |
申请公布号 |
CN1726302B |
申请公布日期 |
2010.05.05 |
申请号 |
CN200380106546.5 |
申请日期 |
2003.11.12 |
申请人 |
应用材料有限公司 |
发明人 |
H·王;Y·何;C·C·斯托 |
分类号 |
C23C14/56(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/56(2006.01)I |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 |
代理人 |
赵蓉民 |
主权项 |
一种清洁处理腔组件的方法,所述组件包括其上具有表面的金属涂层,所述表面包括处理沉积物,所述方法包括:(a)将所述金属涂层的表面浸入一种酸性溶液中,以从所述表面除去至少一部分的处理沉积物,所述酸性溶液包括浓度低于约15M的酸性物质;并且(b)在(a)之后,将所述金属涂层的表面浸入一种碱性溶液中,以除去所有所述金属涂层,而不破坏下层组件结构的下层表面,所述碱性溶液包括浓度为从约1M到约8M的KOH、NH4OH、NaOH和K2CO3之一或更多。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |