| 发明名称 |
在短波辐射产生期间移除由一辐射源所产生的粒子之方法与装置 |
| 摘要 |
本发明描述一种用于移除污染粒子14(诸如原子、分子、原子团(cluster)、离子及其类似物)之方法，该等粒子系在波长达到约20 nm之短波辐射12产生期间由一辐射源10所产生，其中系藉由在辐射源10与一配置于一镜子腔室18之一壁16中的粒子捕集器20之间，以高质量传输率(mass throughput)所引导之第一气体22来移除污染粒子14，该方法可用于一微影装置或一显影镜。为了保护待照射之光学装置及/或物品不受污染，设计本方法以将第二气体24引入镜子腔室18中，且调整其压力使其压力至少与第一气体22压力一样高。 |
| 申请公布号 |
TWI324281 |
申请公布日期 |
2010.05.01 |
| 申请号 |
TW094109599 |
申请日期 |
2005.03.28 |
| 申请人 |
皇家飞利浦电子股份有限公司 KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. 荷兰;ＡＳＭＬ荷兰公司 ASML NETHERLANDS B. V. 荷兰 |
发明人 |
贾恩 琼克斯;李文恩司 派特 贝克;法兰克 贾恩 派特 史顾恩曼斯 |
| 分类号 |
G03F7/00 |
主分类号 |
G03F7/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
| 主权项 |
一种用于移除污染粒子(14)之方法，该等粒子系在波长达到约20 nm之短波辐射(12)产生期间由一辐射源(10)所产生，其中系藉由在该辐射源(10)与一配置于一镜子腔室(18)之一壁(16)中的粒子捕集器(20)之间，以横向于该辐射(12)的传播方向的高质量传输率引导的一第一气体(22)来移除污染粒子(14)，其特征为将一第二气体(24)引入该镜子腔室(18)，且调整该第二气体之压力使其至少与该第一气体(22)之压力一样高，其中该第二气体对辐射实质上透明，且系防止污染粒子或第一气体额外吸收辐射。 |
| 地址 |
荷兰;荷兰 |
