首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Verbesserung der Defekthäufigkeit nach der Dünnschicht-Separation durch Modifikation der Separations-Wärmebehandlung
摘要
申请公布号 DE112008000468(T5) 申请公布日期 2010.04.22
申请号 DE200811000468T 申请日期 2008.03.18
申请人 S.O.I.TEC SILICON ON INSULATOR TECHNOLOGIES 发明人 SCHWARZENBACH, WALTER;BEN MOHAMED, NADIA;GUITTARD, FLEUR
分类号 H01L21/762 主分类号 H01L21/762
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com