发明名称 |
Halbleiteranordnung und Herstellungsverfahren |
摘要 |
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren mit den folgenden Schritten: Bereitstellen von mindestens zwei Halbleiterchips (10); Aufbringen eines dielektrischen Materials (11) auf die mindestens zwei Halbleiterchips (10), um die mindestens zwei Halbleiterchips aneinander zu befestigen (10); selektives Entfernen eines Teils des dielektrischen Materials (11) zwischen den mindestens zwei Halbleiterchips (10), um mindestens eine Aussparung (12) in dem dielektrischen Material (11) zu bilden; und Aufbringen einer Metallpartikel umfassenden Paste (13) auf die mindestens eine Aussparung in dem dielektrischen Material (11). |
申请公布号 |
DE102009038702(A1) |
申请公布日期 |
2010.04.15 |
申请号 |
DE20091038702 |
申请日期 |
2009.08.25 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
FUERGUT, EDWARD;MAHLER, JOACHIM;KOBLINSKI, CARSTEN VON;NIKITIN, IVAN |
分类号 |
H01L21/60;H01L23/48 |
主分类号 |
H01L21/60 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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