发明名称 MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 JP2010087345(A) 申请公布日期 2010.04.15
申请号 JP20080256321 申请日期 2008.10.01
申请人 SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD 发明人 MORIWAKA TOMOAKI;IMABAYASHI RYOTA
分类号 H01L21/02;H01L27/12 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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