| 发明名称 |
COMPOUND AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION |
| 摘要 |
<p>Disclosed is a compound represented by the following general formula (1).</p> |
| 申请公布号 |
KR20100039408(A) |
申请公布日期 |
2010.04.15 |
| 申请号 |
KR20107003260 |
申请日期 |
2008.07.30 |
| 申请人 |
JSR CORPORATION |
发明人 |
SHIMIZU DAISUKE;MARUYAMA KEN;KAI TOSHIYUKI;SHIMOKAWA TSUTOMU |
| 分类号 |
G03F7/004;C07C69/96;G03F7/039 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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