发明名称 封装基板之制造方法、电子装置及计算系统
摘要 一种方法,包括形成涂层于封装基板的平地接点上,此涂层包括配置于第一层与第二层之间的第一材料,第一层与第二层的各层系由包含金的第二材料所做成。一种装置,包括封装基板,其包含复数个平地接点,其中这些平地接点的各个平地接点包括涂层,此涂层包含配置于第一层与第二层之间的第一材料,第一层与第二层的各层系由包含金的第二材料所做成。
申请公布号 TWI323504 申请公布日期 2010.04.11
申请号 TW095146721 申请日期 2006.12.13
申请人 英特尔股份有限公司 发明人 毕杰 沙哈;富山宗弘;艾柏 纳瑟;欧玛 比海尔;查瑞瓦那 古鲁墨西
分类号 H01L23/28;H01L21/56 主分类号 H01L23/28
代理机构 代理人 林志刚
主权项 一种封装基板之制造方法,包含:形成第一涂层于该封装基板的平地接点上,该平地接点包含铜;形成第二涂层于该封装基板的该平地接点上,该封装基板的该平地接点系组构用以连接至电路晶粒,该第二涂层包含配置于一第一层与一第二层之间的第一材料,以及该第一层与该第二层的各层系由包含金的第二材料所做成,其中该第一材料包含钯。
地址 美国