发明名称 |
封装基板之制造方法、电子装置及计算系统 |
摘要 |
一种方法,包括形成涂层于封装基板的平地接点上,此涂层包括配置于第一层与第二层之间的第一材料,第一层与第二层的各层系由包含金的第二材料所做成。一种装置,包括封装基板,其包含复数个平地接点,其中这些平地接点的各个平地接点包括涂层,此涂层包含配置于第一层与第二层之间的第一材料,第一层与第二层的各层系由包含金的第二材料所做成。 |
申请公布号 |
TWI323504 |
申请公布日期 |
2010.04.11 |
申请号 |
TW095146721 |
申请日期 |
2006.12.13 |
申请人 |
英特尔股份有限公司 |
发明人 |
毕杰 沙哈;富山宗弘;艾柏 纳瑟;欧玛 比海尔;查瑞瓦那 古鲁墨西 |
分类号 |
H01L23/28;H01L21/56 |
主分类号 |
H01L23/28 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
一种封装基板之制造方法,包含:形成第一涂层于该封装基板的平地接点上,该平地接点包含铜;形成第二涂层于该封装基板的该平地接点上,该封装基板的该平地接点系组构用以连接至电路晶粒,该第二涂层包含配置于一第一层与一第二层之间的第一材料,以及该第一层与该第二层的各层系由包含金的第二材料所做成,其中该第一材料包含钯。 |
地址 |
美国 |