涂布显影装置及涂布显影方法及记录有电脑可读取之程式的记录媒体

摘要

一种涂布显影装置，先于基板形成抗蚀剂膜，其次将浸润式曝光后的基板进行显影处理，其中，对于因浸润式曝光而残留于基板上之水滴所造成抗蚀剂图案之解像之不良影响加以抑制。本发明注意到附着于基板之液滴经过一定之时间后，其尺寸急遽缩小，此时于基板之抗蚀剂膜会形成变质层(水渍)，而于浸润式曝光后在进入液滴之尺寸急遽缩小之时段前之时段进行基板之输送控制，以于清洗部进行基板之清洗。具体而言，自曝光装置输出送出准备讯号时，介面部之基板输送机构优先于其他输送作业，将输送台上之基板输送至清洗部。

主权项

一种涂布显影装置，先于基板涂布抗蚀剂液以形成抗蚀剂膜，其次以曝光装置进行浸润式曝光后，再将浸润式曝光后的基板由加热部施以加热处理，而后在显影处理部进行显影处理；其特征为包含：清洗部，用以清洗浸润式曝光后之基板之表面；第1基板输送机构，用以递交浸润式曝光后之基板至该清洗部；及控制部，用以对于由该基板输送机构所为之基板输送施行控制，俾于自浸润式曝光结束时点之经过时间与浸润式曝光时残留于基板之液滴之尺寸之关系中，在进入液滴尺寸急遽缩小之时段前之时段内，在该清洗部进行该基板之清洗。