| 发明名称 | 增加热处理反应室利用率的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提出一种增加热处理反应室利用率的方法，包括：在充满第一气体的热处理反应室中放入晶圆；抽出第一气体后，在反应室中通入第二气体。本发明提高了热处理反应室的利用率，增加了产能。 | ||
| 申请公布号 | CN101685766A | 申请公布日期 | 2010.03.31 |
| 申请号 | CN200810200276.9 | 申请日期 | 2008.09.23 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 桂远远;赵星 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 屈 蘅;李时云 |
| 主权项 | 1.一种增加热处理反应室利用率的方法，其特征在于，包括：在充满第一气体的热处理反应室中放入晶圆；抽出第一气体后，在反应室中通入第二气体。 | ||
| 地址 | 201203上海市张江路18号 | ||