发明名称 集成式抽真空器
摘要 本发明公开了一种集成式抽真空器,其用于将制造半导体、平面显示器等设备的处理腔抽成真空,或者将处理腔内产生的气态物质和副产物排出以便使其净化,制造半导体、平面显示器等的处理腔内产生的气态物质通过每个单独排气管路排出以便得以净化。因此,通过废气的散布,防止净化系统运转过度,由此延长了设备运转的寿命。同时,排气工作可以通过每一个排气管路顺利进行,这样就避免了由于排气无法进行而拖延半导体制造进程,并且在排气过程中很容易将未反应的气体和副产物排走。
申请公布号 CN101687131A 申请公布日期 2010.03.31
申请号 CN200880016395.7 申请日期 2008.05.16
申请人 LOT真空股份有限公司 发明人 黄泰璟;吴兴植;卢明根
分类号 B01D46/00(2006.01)I 主分类号 B01D46/00(2006.01)I
代理机构 北京元本知识产权代理事务所 代理人 秦力军
主权项 1、一种集成式抽真空器,其将制造半导体、平面显示器等的处理腔抽成真空,或者将处理腔内产生的气态物质和副产物排出以便将其净化,包括:主体;安置在主体内的至少一个真空泵装置,真空泵装置包括低真空泵,用于将所述处理腔内抽成真空或者将处理腔内产生的气态物质和副产物排出,所述真空泵装置通过第一排气管与所述处理腔相连;至少一个净化器,其通过第二排气管与真空泵装置相连,所述净化器安置在主体内,以便对气态物质进行净化;至少一个收集器,其与真空泵装置相连,用于使处理腔内欲流入低真空泵和净化器的未反应气体和夹杂在气体中的副产物分别发生附加化学反应,而使其不会流入低真空泵和净化器,这样就延长了低真空泵和净化器发生故障的平均时间间隔;以及控制器,与所述真空泵装置、净化器、收集器分别相连,以便对它们集成控制。
地址 韩国京畿道