发明名称 |
光信息记录介质及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种光信息记录介质,在信号记录层(102)上,形成由树脂薄膜(100)、界面层(104)、粘合剂层(103)构成的厚100微米的透明保护层(106)。此处,分别将树脂薄膜(100)、界面层(104)、粘合剂层(103)的折射率设定为nf、ni、na,则满足na<ni≤nf、na>ni≥nf、na<nf≤ni、na>nf≥ni中的任何一个,并且是|nf-ni|<|nf-na|。此时,突起(111)或划伤(110)被界面层(104)在光学上埋没,由此能够降低在该部分产生的激光的散射或波阵面的变形,能够降低误差率。 |
申请公布号 |
CN100595832C |
申请公布日期 |
2010.03.24 |
申请号 |
CN200580011938.2 |
申请日期 |
2005.04.06 |
申请人 |
松下电器产业株式会社;琳得科股份有限公司 |
发明人 |
林一英;锦织圭史;宫田壮 |
分类号 |
G11B7/24(2006.01)I;G11B7/26(2006.01)I |
主分类号 |
G11B7/24(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
汪惠民 |
主权项 |
1.一种光信息记录介质,从用于进行记录及再生的光入射的一侧,按透明保护层、信号记录层、支持基板的顺序构成,所述透明保护层的厚度为10~200微米,其中所述透明保护层,从进行记录及再生的光入射的一侧,依次至少由树脂薄膜、和粘接所述树脂薄膜和信号记录层的粘合剂层构成,在所述树脂薄膜和所述粘合剂层的之间具有界面层,其中所述树脂薄膜在与所述界面层侧接触的面上具有凹凸,在将所述凹凸设为凹凸A时,将通过所述凹凸A形成的所述界面层的所述粘合剂层侧的凹凸设为凹凸B,所述凹凸B的高度或深度,小于所述凹凸A的高度或深度,在将波长405nm附近的所述树脂薄膜的折射率、所述粘合剂层的折射率和所述界面层的折射率分别设为nf、na和ni时,具有na<ni≤nf或na>ni≥nf的关系,并且,还具有|nf-ni|≤0.08的关系。 |
地址 |
日本大阪府 |