发明名称 |
防反射膜形成用组合物、以及使用该组合物的光刻胶图案形成方法 |
摘要 |
本发明提供具有特定pH值的防反射膜形成用组合物,该组合物保存稳定性、与光刻胶膜的配合性、以及涂布性优异,可以形成具有充分的光学特性的防反射膜。用于形成设置于光刻胶膜上的防反射膜的防反射膜形成用组合物,该防反射膜形成用组合物包含水溶性膜形成成分和特定氟化合物。该防反射膜形成用组合物通过添加特定氟化合物,可以容易地调整pH值而不会使涂布性降低,因而可以提供保存稳定性、以及与光刻胶膜的配合性优异的防反射膜形成用组合物。并且,该氟化合物也有助于提高防反射膜的光学特性,因此可以提供可形成具有优异光学特性的防反射膜的防反射膜形成用组合物。 |
申请公布号 |
CN101681112A |
申请公布日期 |
2010.03.24 |
申请号 |
CN200880015584.2 |
申请日期 |
2008.05.16 |
申请人 |
东京应化工业株式会社 |
发明人 |
泽野敦;越山淳;广崎贵子 |
分类号 |
G03F7/11(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/11(2006.01)I |
代理机构 |
广州三环专利代理有限公司 |
代理人 |
郝传鑫 |
主权项 |
1.用于形成设置于光刻胶膜上的防反射膜的防反射膜形成用组合物,该组合物包含水溶性膜形成成分和下列通式(1)表示的化合物,[化1]<img file="A2008800155840002C1.GIF" wi="964" he="334" />上述通式(1)中,1为1~3的整数,m为0或1,n为3~5的整数,m+1为3以下。 |
地址 |
日本神奈川县 |