发明名称 COMPOSICION DE LIMPIEZA DE BAJOS RESIDUOS
摘要 La presente se refiere a composiciones de limpieza que contienen alquilpoliglucosidos C8 a C10, que tienen baja formacion de película y veteado cuando se combinan con alcoholes C2 a C4. Opcionalmente, las composiciones de limpieza pueden comprender tinturas, mejoradores, ácidos grasos, fragancias, colorantes, glicerol, agentes antiespumantes y conservantes.
申请公布号 AR070122(A1) 申请公布日期 2010.03.17
申请号 AR2009P100039 申请日期 2009.01.07
申请人 THE CLOROX COMPANY 发明人
分类号 (IPC1-7):C11D1/66;C11D3/43;C11D1/68;C11D1/72;C11D3/16;C11D3/40;C11D3/50 主分类号 (IPC1-7):C11D1/66
代理机构 代理人
主权项
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